[发明专利]等离子体产生装置有效
申请号: | 201580033735.7 | 申请日: | 2015-06-12 |
公开(公告)号: | CN106416431B | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 徐相勋;郑成炫 | 申请(专利权)人: | 威特尔有限公司 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46;H01L21/3065 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 梁兴龙;曹正建 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供了一种等离子体产生装置和螺旋波等离子体模块。所述等离子体产生装置包括构造成在外部静磁场中产生螺旋波等离子体的多个螺旋波等离子体模块;和构造成通过接收在所述螺旋波等离子体模块中产生的等离子体来处理单个基板的主室。所述各螺旋波等离子体模块包括安装成围绕在所述主室的顶板上形成的通孔突出、由介电材料形成并具有圆筒形状的外部容器;在所述外部容器的中心轴方向上间隔配置并在所述外部容器的内部在中心轴方向上建立静磁场的永磁体;由介电材料形成、与所述外部容器隔开预定距离、配置在所述外部容器的内部并包括内部容器顶板的杯形内部容器;设置成缠绕所述外部容器的感应线圈;和由导体形成、从外部接收处理气体并安装在所述外部容器的顶表面上的外部容器顶板。所述内部容器顶板包括多个通孔并且具有在所述内部容器顶板和所述外部容器顶板的底表面之间形成的气体缓冲空间,其中在所述气体缓冲空间中积聚的处理气体经由所述内部容器顶板的通孔提供到所述内部容器的内部空间以产生等离子体。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 产生 装置 | ||
【主权项】:
1.一种等离子体产生装置,包括构造成在外部静磁场中产生螺旋波等离子体的多个螺旋波等离子体模块和构造成通过接收在所述螺旋波等离子体模块中产生的等离子体来处理单个基板的主室,其中所述各螺旋波等离子体模块包括:安装成围绕在所述主室的顶板上形成的通孔突出、由介电材料形成并具有圆筒形状的外部容器;在所述外部容器的中心轴方向上间隔配置并在所述外部容器的内部在中心轴方向上建立静磁场的永磁体;由介电材料形成、与所述外部容器隔开预定距离、配置在所述外部容器的内部并包括内部容器顶板的杯形内部容器;设置成缠绕所述外部容器的感应线圈;和由导体形成、从外部接收处理气体并安装在所述外部容器的顶表面上的外部容器顶板,其中所述内部容器顶板具有多个通孔,其中在所述内部容器顶板和所述外部容器顶板的底表面之间形成有气体缓冲空间,以及其中在所述气体缓冲空间中积聚的处理气体经由所述内部容器顶板的通孔提供到所述内部容器的内部空间以产生等离子体,其中所述多个螺旋波等离子体模块在具有固定半径的圆周上以一定角度相对于所述主室的顶板的中心对称地配置,所述等离子体产生装置还包括设置在所述主室的中心并且不具有在其中建立静磁场的部分的感应耦合等离子体模块,其中所述感应耦合等离子体模块包括:安装成围绕在所述主室的顶板上形成的通孔突出、由介电材料形成并具有圆筒形状的外部容器;由介电材料形成、与所述外部容器隔开预定距离并包括内部容器顶板的杯形内部容器;设置成缠绕所述外部容器的感应线圈;和由导体形成、从外部接收处理气体并安装在所述外部容器的顶表面上的外部容器顶板,其中所述内部容器顶板具有多个通孔,其中在所述内部容器顶板和所述外部容器顶板的底表面之间形成有气体缓冲空间,以及其中在所述气体缓冲空间中积聚的处理气体经由所述内部容器顶板的通孔提供到所述内部容器的内部空间以产生等离子体。
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