[发明专利]用于在透明衬底中制造纳米结构的方法有效
| 申请号： | 201580032930.8 | 申请日： | 2015-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN106415328B | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | S·平特 | 申请（专利权）人： | 罗伯特·博世有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/113 | 分类号： | G02B1/113;G02B1/118 |
| 代理公司： | 72002 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 侯鸣慧 |
| 地址： | 德国斯*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 用于在透明衬底(10)中制造纳米结构(11)的方法，该方法具有如下步骤：a)以限定的厚度将第一结构载体层(20)涂覆到衬底(100)的至少一个表面上；b)将纳米结构(21)构造到第一结构载体层(20)中；和c)氧化第一结构载体层(20)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 透明 衬底 制造 纳米 结构 方法 | ||
【主权项】：
1.用于在透明衬底(10)中制造纳米结构(11)以增透光学表面的方法，具有如下步骤：/na)以限定的厚度将第一结构载体层(20)涂覆到所述衬底(10)的至少一个表面和对置的表面上，其中，将透明衬底的中间层(10a)涂覆到所述第一结构载体层(20)上，其中，将第二结构载体层(30)涂覆到所述透明衬底的所述中间层(10a)上，其中，所述第一结构载体层(20)、所述中间层(10a)和所述第二结构载体层(30)彼此叠置地布置在所述衬底(10)的所述至少一个表面和所述对置的表面上，其中，至少部分地移除在所述至少一个表面上的所述第二结构载体层(30)以及所述中间层(10a)；/nb)在所述第一结构载体层(20)中构造纳米结构(21)；和/nc)氧化暴露地存在的所述第一结构载体层(20)，并且所述第一结构载体层(20)在氧化后变透明。/n
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