[发明专利]用于半导体器件的电接触结构和半导体器件有效

专利信息
申请号: 201580028224.6 申请日: 2015-05-22
公开(公告)号: CN106415871B 公开(公告)日: 2018-12-07
发明(设计)人: 科比尼安·佩尔茨尔迈尔;比约恩·米曼;卡尔·恩格尔;克里斯蒂安·艾兴格 申请(专利权)人: 欧司朗光电半导体有限公司
主分类号: H01L51/44 分类号: H01L51/44;H01L51/52
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 丁永凡;张春水
地址: 德国雷*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 提出一种用于半导体器件(100)的电接触结构(10),所述电接触结构具有:透明导电接触层(1),在所述透明导电接触层上施加第一金属接触层(2);第二金属接触层(3),所述第二金属接触层完全地遮盖第一金属接触层(2);和分离层(4),所述分离层设置在透明导电接触层(1)和第二金属接触层(3)之间,并且所述分离层将第二金属接触层(3)与透明导电接触层(1)分离。此外,提出一种具有这种电接触结构(10)的半导体器件(100)。
搜索关键词: 用于 半导体器件 接触 结构
【主权项】:
1.一种用于半导体器件(100)的电接触结构(10),所述电接触结构具有:‑透明导电接触层(1),在所述透明导电接触层上施加有第一金属接触层(2);‑第二金属接触层(3),所述第二金属接触层完全地遮盖所述第一金属接触层(2);和‑分离层(4),所述分离层设置在所述透明导电接触层(1)和所述第二金属接触层(3)之间,并且所述分离层将所述第二金属接触层(3)与所述透明导电接触层(1)分离,其中所述分离层(4)在所述第二金属接触层(3)下方伸出;其中在所述第一金属接触层(2)和所述第二金属接触层(3)之间设置有势垒层(5),所述势垒层完全地遮盖所述第一金属接触层(2),并且所述势垒层由所述第二金属接触层(3)遮盖;其中所述势垒层(5)部分地遮盖所述分离层(4);其中所述势垒层(5)直接地在所述透明导电接触层(1)上设置在包围所述第一金属接触层(1)的区域中,和其中所述分离层(4)与所述第一金属接触层(2)间隔开。
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