[发明专利]激光加工装置及激光加工方法有效
申请号: | 201580028164.8 | 申请日: | 2015-03-30 |
公开(公告)号: | CN106463374B | 公开(公告)日: | 2019-10-01 |
发明(设计)人: | 坂本刚志;伊崎泰则;松永麻美子 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | H01L21/301 | 分类号: | H01L21/301;B23K26/064;B23K26/067;B23K26/53 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 激光加工装置(300)具备射出激光(L)的激光光源(202)、将激光(L)聚光于加工对象物(1)的聚光光学系统(204)、以及以激光(L)至少被分支为第1加工光以及第2加工光并且第1加工光被聚光于第1聚光点且第2加工光被聚光于第2聚光点的方式对激光(L)进行调制的反射型空间光调制器(203)。若将加工对象物(1)的表面(3)上的第1加工光的半径设为(W1),将该表面(3)上的第2加工光的半径设为(W2),将在从与该表面(3)垂直的方向观察的情况下的第1聚光点和第2聚光点的距离设为(D),则反射型空间光调制器(203)以满足D>W1+W2的方式调制激光(L)。 | ||
搜索关键词: | 激光 加工 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种激光加工装置,其特征在于,是通过将激光聚光于加工对象物从而沿着切断预定线在所述加工对象物形成改质区域的激光加工装置,具备:激光光源,射出所述激光;聚光光学系统,将通过所述激光光源射出的所述激光聚光于所述加工对象物;和空间光调制器,以所述激光至少被分支为第1加工光以及第2加工光,通过所述聚光光学系统,所述第1加工光被聚光于第1聚光点并且所述第2加工光被聚光于第2聚光点的方式,对通过所述激光光源射出的所述激光进行调制,所述第1聚光点以及所述第2聚光点具有,在所述加工对象物中,所述第1聚光点相对于所述第2聚光点位于与所述激光的入射侧相反侧的所述加工对象物的第1表面侧并且所述第1聚光点相对于所述第2聚光点位于沿着所述切断预定线的所述激光的相对移动方向上的前侧的位置关系,在将所述第1表面上的所述第1加工光的半径设为W1,将所述第1表面上的所述第2加工光的半径设为W2,将在从与所述第1表面垂直的方向观察的情况下的所述第1聚光点和所述第2聚光点的距离设为D时,所述空间光调制器以满足D>W1+W2的方式调制所述激光。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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