[发明专利]稠密特征的热点的减少有效
| 申请号： | 201580022370.8 | 申请日： | 2015-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN106255925B | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | 曾世恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于调整光刻设备中的线宽粗糙度(LWR)的计算机实施的方法，所述方法包括：接收对于在光刻过程中通过使用图案形成装置将被成像到衬底上的图案的多个不同特征中的每个特征的LWR和/或图像对数斜率(ILS)的值；和评价包括光刻参数和LWR和/或ILS的值的成本函数以确定光刻参数的值，该光刻参数的值(i)减小不同特征的LWR和/或ILS之间的偏置，或(ii)减小不同光刻设备之间的不同特征的LWR和/或ILS的差异，或(iii)减小不同图案形成装置之间的不同特征的LWR和/或ILS的差异，或(iv)从(i)至(iii)中选择的任何组合。 | ||
| 搜索关键词： | 稠密 特征 热点 减少 | ||
【主权项】：
1.一种用于调整光刻设备中的线宽粗糙度(LWR)的由计算机实施的方法，所述方法包括：接收对于将在光刻过程中通过使用图案形成装置被成像到衬底上的图案的多个不同特征中的每个特征的LWR和/或图像对数斜率(ILS)的值；和评价包括光刻参数和LWR和/或ILS的值的成本函数、以确定光刻参数的值，该光刻参数的值(i)减小不同特征的LWR和/或ILS之间的偏置，或(ii)减小不同光刻设备之间的不同特征的LWR和/或ILS的差异，或(iii)减小不同图案形成装置之间的不同特征的LWR和/或ILS的差异，或(iv)从(i)至(iii)中选择的任何组合。
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