[发明专利]衬底支座、用于在衬底支撑位置上加载衬底的方法、光刻设备和器件制造方法

摘要

一种衬底支座(1)，包括：配置用于支撑衬底(W)的衬底支撑位置(4)，以及配置用于在衬底支撑位置上夹持衬底的真空夹持装置(7)，其中真空夹持装置包括用于产生减压的至少一个减压源(8)，连接至该至少一个减压源的至少一个真空区段(9)，其中配置至少一个真空区段以朝向衬底支撑位置吸引衬底，以及配置用于沿着至少一个真空区段而控制空间压力分布的控制装置(16)，采用控制装置由真空夹持装置吸引衬底，其中控制装置包括用于接收表示待夹持衬底的形状数据的衬底形状数据的衬底形状数据输入端(16a)，以及其中配置控制装置以依照衬底形状数据而改变空间压力分布。

主权项

1.一种衬底支座，包括：/n衬底支撑位置，被配置用于支撑衬底，/n真空夹持装置，被配置用于在所述衬底支撑位置上夹持所述衬底，其中所述真空夹持装置包括：/n用于产生减压的至少一个减压源，/n连接至所述至少一个减压源的至少一个真空区段，其中所述至少一个真空区段被设置并配置为朝向所述衬底支撑位置吸引所述衬底,其中所述至少一个真空区段包括中央真空区段和围绕所述中央真空区段的环形区域，所述环形区域包括遍布所述环形区域的圆周分布的多个真空区段,并且其中每个真空区段包括至少一个压力传感器，以测量在相应真空区段中的压力水平，以及/n控制装置，被配置用于沿着所述至少一个真空区段控制空间压力分布，借此由所述真空夹持装置吸引所述衬底，其中所述控制装置包括衬底形状数据输入端以接收表示待夹持的衬底的形状数据的衬底形状数据，并且还包括压力控制输入端以接收在所述相应真空区段中由所述至少一个压力传感器测量的压力水平，以及其中所述控制装置被配置为依据所述衬底形状数据和在所述相应真空区段中所测量的压力水平修改所述空间压力分布，/n其中所述衬底支座包括多个支撑销，所述多个支撑销在支撑位置和缩回位置之间可移动，在所述支撑位置所述多个支撑销能够在所述衬底支撑位置之上支撑衬底，在所述缩回位置所述多个支撑销缩回在所述衬底支撑位置之下，以及其中所述控制装置被配置为当由所述支撑销支撑所述衬底以便于控制在所述衬底和所述衬底支撑位置之间的空间压力分布时，控制所述支撑销至少在所述支撑位置和所述缩回位置之间的移动。/n