[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201580019682.3 | 申请日： | 2015-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN106170727B | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | R·J·M·德容;L·L·F·米克斯;R·J·E·梅里 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G02B7/182 | 分类号： | G02B7/182;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备，包括用于重定向辐射束例如EUV束的反射器(15)。使用控制器和定位系统控制反射器的位置。定位系统包括非补偿致动器装置(300)和用于补偿非补偿致动器装置的寄生力的补偿致动器装置(200)。定位系统和控制器可以提供反射器的更精确位置，减小反射器的变形以及减小穿过反射器传播的力的幅度。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于定位物体的定位系统，其中所述定位系统被配置为在N个自由度中定位所述物体，其中N是正整数，所述定位系统包括：M个致动器装置，每个致动器装置被配置为向所述物体施加力，以及M是大于N的正整数，其中所述致动器装置中的至少一个是补偿致动器装置而所述致动器装置中的至少另一个是非补偿致动器装置；以及控制器，被配置为控制补偿致动器装置和非补偿致动器装置，其中所述控制器被配置为控制所述补偿致动器装置以补偿所述非补偿致动器装置的寄生力，其中所述补偿致动器装置和所述非补偿致动器装置被配置用于在其上的相同点处向所述物体施加力。
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