[发明专利]光刻过程的优化流程有效
| 申请号： | 201580019575.0 | 申请日： | 2015-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN106164777B | 公开（公告）日： | 2019-06-18 |
| 发明（设计）人： | 段福·史蒂芬·苏;拉斐尔·C·豪厄尔;刘晓峰 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本文描述了一种计算机执行方法，用于改善使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像在衬底上的光刻过程，所述光刻投影设备包括照射源和投影光学装置，所述方法包括：获得源形状和掩模离焦值；优化光刻过程的剂量；优化用于照射源的多个狭缝位置中的每一个的设计布局的部分。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 过程 优化 流程 | ||
【主权项】：
1.一种计算机执行方法，用于改善使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像在衬底上的光刻过程，所述光刻投影设备包括照射源和投影光学装置，所述方法包括：获得源形状和掩模离焦值；优化光刻过程的剂量；对于照射源的多个狭缝位置中的每一个优化设计布局的所述部分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201580019575.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
