[发明专利]用于高磁性材料的溅射系统及方法在审
| 申请号： | 201580017459.5 | 申请日： | 2015-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN106133181A | 公开（公告）日： | 2016-11-16 |
| 发明（设计）人： | D·W·布朗;T·布鲁克 | 申请（专利权）人： | 因特瓦克公司 |
| 主分类号： | C23C14/00 | 分类号： | C23C14/00;C23C14/34;C23C14/35 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 蔡洪贵 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于将材料从靶材沉积到衬底上的系统，包括：处理室；溅射靶材，其具有长度L并且具有设置在该溅射靶材的前表面上的高磁性溅射材料；磁体组件，其是可操作的以接近该靶材的背面越过该长度L往复地扫描；并且该磁体组件包括：由磁性材料制成的背板；第一组磁体，其被呈单行设置在背板的中央并且具有被设置成面对该靶材的背面的第一磁极；和第二组磁体，其被围绕该背板的外围设置，以便环绕住该第一组磁体，第二组磁体具有与第一磁极相反的第二磁极并且被设置成面对该靶材的背面。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 磁性材料 溅射 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于将材料从靶材沉积到衬底上的系统，包括：处理室；溅射靶材，所述溅射靶材具有长度L并且具有设置在所述溅射靶材的前表面上的高磁性溅射材料；磁体组件，所述磁体组件能够操作以接近于所述靶材的背面越过所述长度L往复地进行扫描；其中，所述磁体组件包括：由磁性材料制成的背板；第一组磁体，所述第一组磁体被呈单行设置在所述背板的中央并且具有设置成面对所述靶材的所述背面的第一磁极；和第二组磁体，所述第二组磁体被围绕所述背板的外围设置，以便环绕住所述第一组磁体，所述第二组磁体具有与所述第一磁极相反的第二磁极并且被设置成面对所述靶材的背面。
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