[发明专利]含有芳香族乙烯基化合物加成的酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物有效
| 申请号： | 201580016776.5 | 申请日： | 2015-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN106133607B | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 远藤贵文;桥本圭祐;西卷裕和;坂本力丸 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08G14/02;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 11247 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 王磊;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题是提供一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其对用于显现良好的涂布成膜性的光刻中所使用的溶剂具有高的溶解性，并可以减少在成膜时产生的升华物。抗蚀剂下层膜形成用组合物含有酚醛清漆树脂，所述酚醛清漆树脂具有通过含有芳香环的化合物(A)的芳香环结构与芳香族乙烯基化合物(B)的乙烯基的反应而得到的结构基团(C)。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 芳香族 乙烯基 化合物 加成 酚醛 清漆 树脂 抗蚀剂 下层 形成 组合 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，含有酚醛清漆树脂，所述酚醛清漆树脂附加地具有通过含有芳香环的化合物(A)的芳香环结构与芳香族乙烯基化合物(B)的乙烯基之间的反应而得到的结构基团(C)，所述含有芳香环的化合物(A)为芳香族胺化合物。/n
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