[发明专利]二酮吡咯并吡咯半导性材料及其制法与用途有效

专利信息
申请号: 201580015603.1 申请日: 2015-02-26
公开(公告)号: CN106573940B 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: 贺明谦;胡婕妤;钮渭钧;阿曼达·坦德拉 申请(专利权)人: 康宁公司
主分类号: C07D519/00 分类号: C07D519/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;吴启超
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 在本文中描述的是杂环有机化合物。更具体地,在本文中描述的是基于稠合吡咯结构与二酮吡咯并吡咯结构的组合的化合物、制造这些化合物的方法及其用途。所公开的化合物具有改进电子、聚合和稳定性性质,从而实现改进材料可加工性并且运行包括在有机半导体器件中。
搜索关键词: 吡咯 半导性 材料 及其 制法 用途
【主权项】:
1.一种具有下式的化合物:其中Ar为任选地取代的芳香或杂芳香基团或共轭基团;k为0,且结构导致噻吩和吡咯基团之间的直接键合;每个Y独立地为H、卤素、三烷基硅烷、任选地取代的C1‑C40烷基、任选地取代的芳烷基、烷氧基、烷硫基、任选地取代的C2‑C40烯基、任选地取代的C2‑C40炔基、胺羰基、酰胺基、酰氧基、芳基、芳氧基、任选地取代的胺基、羧烷基、任选地取代的环烷基、任选地取代的环烯基、酰基、任选地取代的杂芳基、任选地取代的杂芳烷基、杂芳氧基、任选地取代的杂环基、硫醇、杂芳基硫醇、任选地取代的亚砜、任选地取代的砜、OSO‑烷基、Mg‑卤素、Zn‑卤素、Sn(烷基)3、SnH3、B(OH)2、B(烷氧基)2、或OTs;每个R、R2和R3独立地为H、卤素、任选地取代的C1‑C20烷基、任选地取代的芳烷基、烷氧基、烷硫基、任选地取代的C2‑C20烯基、任选地取代的C2‑C20炔基、任选地取代的环烷基、任选地取代的环烯基、任选地取代的杂环基、或者来自由苯基、噻吩基、呋喃基、吡咯基、咪唑基、三唑基、恶唑基、噻唑基、吡啶基、嘧啶基、三嗪基、萘基、异喹啉基、喹啉基、或萘啶基组成的组的任选地取代的芳基或任选地取代的杂芳基;并且R、R2、或R3中的至少一或多者独立地为任选地取代的C1‑C20烷基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于康宁公司,未经康宁公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580015603.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top