[发明专利]用于控制熔体内的热流的装置及其处理方法有效
| 申请号： | 201580014648.7 | 申请日： | 2015-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN106133208B | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 彼德·L·凯勒曼;菲德梨克·M·卡尔森;大卫·莫雷尔;阿拉·莫瑞迪亚;南帝斯·德塞 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备公司 |
| 主分类号： | C30B15/20 | 分类号： | C30B15/20;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨贝贝;臧建明 |
| 地址： | 美国麻萨诸塞*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于控制熔体内的热流的装置及其处理方法。装置可包括坩埚，用以容纳熔体，而熔体具有暴露面。装置也可包括加热器与散热屏障总成。加热器配置于坩埚的第一侧的下方，用以提供热以穿过熔体而至暴露面。散热屏障总成包括至少一散热屏障，配置于坩埚内，并在熔体中定义隔离区与外围区。所述装置用以容纳或限制热流，所以表面的热流会受规范。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 控制 体内 热流 装置 及其 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种控制装置，用于控制熔体内的热流，包括：坩埚，用以容纳所述熔体，所述熔体具有暴露面；加热器，配置于所述坩埚的第一侧的下方且用以提供热穿过所述熔体至所述暴露面；以及散热屏障总成，包括至少一散热屏障，所述至少一散热屏障配置于所述坩埚内，并在所述熔体中定义隔离区与外围区。
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