[发明专利]氧化物烧结体和其制造方法、以及氧化物膜在审
| 申请号： | 201580014165.7 | 申请日： | 2015-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN106103381A | 公开（公告）日： | 2016-11-09 |
| 发明（设计）人： | 曾我部健太郎;安东勲雄;小泽诚 | 申请（专利权）人： | 住友金属矿山株式会社 |
| 主分类号： | C04B35/00 | 分类号： | C04B35/00;C04B35/16;C23C14/08;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供：制造稳定性、成膜稳定性、放电稳定性和机械强度优异的氧化物烧结体和其制造方法、以及使用该氧化物烧结体得到的具有中间折射率的氧化物膜。制造包含In和Si、且Si的含量以Si/In原子数比计为0.65以上且1.75以下、相对密度为90％以上、弯曲强度为90N/mm2以上的氧化物烧结体，利用使用该氧化物烧结体的溅射法制作折射率1.70以上且1.90以下的氧化物膜。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化物 烧结 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
一种氧化物烧结体，其特征在于，包含In和Si、且该Si的含量以Si/In原子数比计为0.65以上且1.75以下，由相对于计算密度的该氧化物烧结体的密度的实测值算出的相对密度为90％以上，所述计算密度是由构成该氧化物烧结体的各化合物相的存在比率和真密度算出的，该氧化物烧结体的弯曲强度为90N/mm2以上。
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