[发明专利]光刻设备和器件制造方法

摘要

本发明提供一种包括阻挡系统(3)的光刻设备，及使用如所描述的光刻设备中的任一个的器件制造方法。所述阻挡系统用以维持阻挡装置(4)内的气体的受保护体积。可在所述光刻设备的不同部件相对于彼此而移动时维持所述受保护体积。所述阻挡系统可用于所述光刻设备内的不同部位中。所述阻挡装置的几何构型影响所述受保护体积如何高效地被维持，尤其是在高速的情况下。本发明的几何构型减少从所述阻挡装置外部进入所述受保护体积的环境气体的量。

主权项

1.一种光刻设备，所述光刻设备包括第一部件及第二部件，所述第一部件及所述第二部件被配置成在扫描方向和基本上垂直于所述扫描方向的步进方向中的一个方向上经历相对于彼此的相对移动，其中：所述第一部件具有第一表面；所述第二部件具有第二表面；其中所述第一表面与所述第二表面彼此面对；所述第一表面及所述第二表面中的至少一个特定表面容纳阻挡系统；且所述阻挡系统被配置成提供阻挡装置，所述阻挡装置能够操作以减少或防止环境气体流入至介于所述第一表面与所述第二表面之间的气体的受保护体积中；且所述阻挡系统包括如下特征中的至少一个：壁，其包围与所述第一表面及所述第二表面中的所述特定表面相邻的所述受保护体积的一部分；和至少两个开口，其适于来自于所述至少两个开口的阻挡气体流动以建立包围与所述第一表面及所述第二表面中的所述特定表面相邻的所述受保护体积的一部分的气帘，所述至少两个开口中的一个开口是提供阻挡气体的湍流的内部开口，且所述至少两个开口中的另一个开口是提供阻挡气体的层流的外部开口；所述阻挡装置在所述扫描方向及所述步进方向所处的平面中具有几何构型，且所述阻挡装置能够操作以引导环境气体在所述受保护体积周围流动，所述环境气体的流动是由所述第一部件与所述第二部件的所述相对移动诱发的；所述几何构型具有第一角部及第二角部；当所述第一部件与所述第二部件在所述扫描方向及所述步进方向中的一特定方向上相对于彼此而移动时，所述第一角部用作所述阻挡装置的前边缘且所述第二角部用作所述阻挡装置的后边缘；和当所述第一部件与所述第二部件在与所述特定方向相反的另一方向上相对于彼此而移动时，所述第一角部用作所述阻挡装置的后边缘且所述第二角部用作所述阻挡装置的前边缘。