[发明专利]整体型分离膜结构体及其制造方法在审
| 申请号： | 201580009164.3 | 申请日： | 2015-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN106102877A | 公开（公告）日： | 2016-11-09 |
| 发明（设计）人： | 寺西慎;市川真纪子;铃木秀之 | 申请（专利权）人： | 日本碍子株式会社 |
| 主分类号： | B01D63/06 | 分类号： | B01D63/06;B01D69/10;B01D69/12;B01D71/02;C04B38/00;C04B41/85;C04B41/89 |
| 代理公司： | 北京旭知行专利代理事务所(普通合伙) 11432 | 代理人： | 王轶;郑雪娜 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 整体型分离膜结构体(100)包括：基材(211)、第一支撑层(212)及分离膜(300)。基材(211)由多孔质材料构成，且具有多个贯通孔(TH)。第一支撑层(212)形成在多个贯通孔(TH)的内表面(211S)上。分离膜(300)配置在第一支撑层(212)的内侧。第一支撑层(212)含有骨料、无机粘结剂及烧结助剂，其中，骨料以氧化铝为主成分，无机粘结剂以二氧化钛为主成分，烧结助剂以二氧化硅和氧化镁中的至少一者为主成分。 | ||
| 搜索关键词： | 整体 分离 膜结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种整体型分离膜结构体，包括：基材，所述基材由多孔质材料构成，且具有多个贯通孔，第一支撑层，所述第一支撑层形成在所述多个贯通孔的内表面，分离膜，所述分离膜配置在所述第一支撑层的内侧；所述第一支撑层含有二氧化硅和氧化镁中的至少一者、以及氧化铝和二氧化钛。
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