[发明专利]多层膜及其制造方法

摘要

本发明为一种多层膜及其制造方法，所述多层膜在由树脂组合物[E]形成的膜[F]的1面或两面层叠有由树脂组合物[E’]形成的层[F’]而成，所述树脂组合物[E]对将特定的嵌段共聚物[C]的全部不饱和键的90％以上进行了氢化的嵌段共聚物氢化物[D]配合紫外线吸收剂而成，所述特定的嵌段共聚物[C]包含以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A]和以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B]，所述树脂组合物[E’]相对于100重量份的特定嵌段共聚物氢化物[D’]和/或在嵌段共聚物氢化物[D’]中导入烷氧基甲硅烷基而成的改性嵌段共聚物氢化物[D”]配合0重量份以上且小于1.0重量份的紫外线吸收剂，所述特定的嵌段共聚物氢化物[D’]包含以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A’]和以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B’]。

主权项

一种多层膜，在由树脂组合物[E]形成的厚度为10～200μm的膜[F]的1面或两面层叠有由树脂组合物[E’]形成的厚度为1～50μm的层[F’]而成，所述树脂组合物[E]是相对于100重量份的将嵌段共聚物[C]的全部不饱和键的90％以上进行了氢化的嵌段共聚物氢化物[D]配合1.0～10.0重量份的紫外线吸收剂而成的，所述嵌段共聚物[C]包含以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A]和以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B]，在将全部聚合物嵌段[A]的占嵌段共聚物总体的重量分数设为wA、将全部聚合物嵌段[B]的占嵌段共聚物总体的重量分数设为wB时，wA与wB的比即wA∶wB为40∶60～90∶10，所述树脂组合物[E’]中，相对于100重量份的将嵌段共聚物[C’]的全部不饱和键的90％以上进行了氢化的嵌段共聚物氢化物[D’]和/或在嵌段共聚物氢化物[D’]中导入烷氧基甲硅烷基而成的改性嵌段共聚物氢化物[D”]，配合有0重量份以上且小于1.0重量份的紫外线吸收剂，所述嵌段共聚物[C’]包含以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的至少2个聚合物嵌段[A’]和以来自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的至少1个聚合物嵌段[B’]，在将全部聚合物嵌段[A’]的占嵌段共聚物总体的重量分数设为wA’、将全部聚合物嵌段[B’]的占嵌段共聚物总体的重量分数设为wB’时，wA’与wB’的比即wA’∶wB’为40∶60～80∶20。