[实用新型]一种金属掩膜板有效
| 申请号： | 201521092001.X | 申请日： | 2015-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN205301807U | 公开（公告）日： | 2016-06-08 |
| 发明（设计）人： | 杨乐;刘挺;岳玲;周宏伟;徐西昌 | 申请（专利权）人： | 西安龙腾新能源科技发展有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人： | 李罡 |
| 地址： | 710021 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种金属掩膜板，该金属掩膜板的栅源图形识别标志区域设置有用于识别GATE 极性和SOURCE极性的图形。本实用新型在不改造老旧封装设备的基础上，修改产品的金属掩膜板的图形，提高芯片表面不同极性之间的辨识度，使老旧设备能正确识别极性，完成封装目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 掩膜板 | ||
【主权项】：
一种金属掩膜板，其特征在于，该金属掩膜板的栅源图形识别标志区域设置有用于识别GATE 极性和SOURCE极性的图形。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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