[实用新型]基质辅助激光解析离子源激光及成像集成系统有效
申请号: | 201521025342.5 | 申请日: | 2015-12-11 |
公开(公告)号: | CN205193007U | 公开(公告)日: | 2016-04-27 |
发明(设计)人: | 蔡克亚;宋家玉;吴鹏鹏;张彤;张瑞峰;李向广;王家杰;李传华;郭光辉;李康康;王晓锦;曹洁茹;刘伟伟;刘聪;吴学炜 | 申请(专利权)人: | 安图实验仪器(郑州)有限公司 |
主分类号: | G01N27/64 | 分类号: | G01N27/64;H01J49/16 |
代理公司: | 郑州异开专利事务所(普通合伙) 41114 | 代理人: | 韩华 |
地址: | 450016 河南省*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种基质辅助激光解析离子源激光及成像集成系统,包括底壁开设有透光孔的透镜腔体,在其下方同中心轴线固定有电子透镜,两侧底壁上开设有左、右透镜安装孔,左、右透镜安装孔和透光孔的中心轴线处于同一平面且与透光孔的中心轴线夹角ɑ相等;其交点位于电子透镜下方样靶的标靶中心点;在透镜腔体的右侧壁上设有CCD成像镜头,其主光轴线与右透镜安装孔的中心轴线相重合,进光口与右透镜安装孔的出光口之间设有光通道,在右透镜安装孔的出光口处设有反射光凸透镜;位于透镜腔体的左侧壁上设有光纤头位置调节装置,其主光轴线与左透镜安装孔的中心轴线相重合,左透镜安装孔的进、出光口处分别设置有进光凸透镜和出光凸透镜。 | ||
搜索关键词: | 基质 辅助 激光 解析 离子源 成像 集成 系统 | ||
【主权项】:
一种基质辅助激光解析离子源激光及成像集成系统,其特征在于:包括上开口结构的透镜腔体,所述透镜腔体的底壁中部开设有倒锥形透光孔,位于所述倒锥形透光孔的下方同中心轴线固定有电子透镜;位于倒锥形透光孔两侧的所述底壁上分别开设有向左、右上方倾斜的左透镜安装孔和右透镜安装孔,所述左透镜安装孔、右透镜安装孔和倒锥形透光孔的中心轴线处于同一平面,左透镜安装孔和右透镜安装孔的中心轴线与倒锥形透光孔的中心轴线夹角ɑ相等;左透镜安装孔、右透镜安装孔和倒锥形透光孔的中心轴线相交于位于电子透镜下方样靶的标靶中心点;位于透镜腔体的右侧壁上倾斜向下设置有CCD成像镜头,所述CCD成像镜头的主光轴线与右透镜安装孔的中心轴线相重合,CCD成像镜头的进光口与右透镜安装孔的出光口之间设置有光通道,在右透镜安装孔的出光口处设置有反射光凸透镜;位于透镜腔体的左侧壁上倾斜向下设置有用于与激光发射器连接的光纤头位置调节装置,所述光纤头位置调节装置的主光轴线与左透镜安装孔的中心轴线相重合,左透镜安装孔的进、出光口处分别设置有进光凸透镜和出光凸透镜。
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