[实用新型]基质辅助激光解析离子源激光及成像集成系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及基质辅助激光解析离子源激光及成像领域，尤其是涉及基质辅助激光解析离子源激光及成像集成系统。

背景技术

基质辅助激光解析离子源是一种能够实现将固态被分析样品解析的过程的设备装置。被分析样品在常压下形成固态，将其制作成靶样，通过进靶机构将其载入到真空系统中。被分析质子固化在靶台上，激光系统与CCD成像系统固定在透镜腔体系统上，其二者中轴线相对于靶台焦点位置中心轴线成一定角度的对称分布。通过激光系统发射一定波长的光，通过光纤传导在样靶上，质子在短时间内获得能量，被分解成各种片段离子；由于各离子的质荷比不一样，其在飞行管中的运动速度也是不一样的，因此飞行管终端的检测设备检测到的质子飞行图谱也是不一样的。目前，现有技术还没有集成激光系统和CCD成像系统，而单个成像系统的安装固定结构比较复杂，使用时需要不断地调试且终端成像效果不清晰。

发明内容

本实用新型目的在于提供一种基质辅助激光解析离子源激光及成像集成系统。

为实现上述目的，本实用新型采取下述技术方案：

本实用新型所述的基质辅助激光解析离子源激光及成像集成系统，包括上开口结构的透镜腔体，所述透镜腔体的底壁中部开设有倒锥形透光孔，位于所述倒锥形透光孔的下方同中心轴线固定有电子透镜；位于倒锥形透光孔两侧的所述底壁上分别开设有向左、右上方倾斜的左透镜安装孔和右透镜安装孔，所述左透镜安装孔、右透镜安装孔和倒锥形透光孔的中心轴线处于同一平面，左透镜安装孔和右透镜安装孔的中心轴线与倒锥形透光孔的中心轴线夹角ɑ相等；左透镜安装孔、右透镜安装孔和倒锥形透光孔的中心轴线相交于位于电子透镜下方样靶的标靶中心点；位于透镜腔体的右侧壁上倾斜向下设置有CCD成像镜头，所述CCD成像镜头的主光轴线与右透镜安装孔的中心轴线相重合，CCD成像镜头的进光口与右透镜安装孔的出光口之间设置有光通道，在右透镜安装孔的出光口处设置有反射光凸透镜；位于透镜腔体的左侧壁上倾斜向下设置有用于与激光发射器连接的光纤头位置调节装置，所述光纤头位置调节装置的主光轴线与左透镜安装孔的中心轴线相重合，左透镜安装孔的进、出光口处分别设置有进光凸透镜和出光凸透镜。

所述光纤头位置调节装置包括底座和设置在所述底座上方的安装室，所述安装室和底座上分别垂直开设有穿孔，安装室和底座通过贯穿所述穿孔的支撑立柱相连接，位于安装室和底座之间的所述支撑立柱上套装有支柱弹簧；安装室和底座的侧壁上对应于支撑立柱位置处分别设置有锁紧螺钉；支撑立柱的上、下两端均为丝杆结构，支撑立柱的上端丝杆上螺接有高度调节螺母，支撑立柱的下端丝杆用于与外部设备螺接；安装室内设置有开设有光通道的光纤头，所述光纤头的上端口延伸出安装室的上开口之外，光纤头的下端口延伸至安装室的下开口之内，在安装室下开口处垂直向下衔接有遮光筒，所述遮光筒的下筒口延伸至开设在底座上的通孔内；在安装室的左、右侧壁和前、后侧壁上分别设置有一组结构相同的水平调节组件；

所述水平调节组件由水平开设在一侧壁上的螺孔、水平开设在相对另一侧壁上的弹簧安装孔，以及与所述螺孔螺接的水平调节螺杆，和置于所述弹簧安装孔内的回位弹簧组成；

在光纤头的侧壁上，对应于每组的水平调节组件的水平调节螺杆和回位弹簧位置处，分别开设有水平调节螺杆顶入槽和回位弹簧顶入槽。

开设在所述底座上的通孔为阶梯孔，所述阶梯孔的下孔直径大于上孔直径，所述遮光筒的下筒口延伸至阶梯孔的下孔内。

所述安装室的顶壁为活动盖结构，所述活动盖通过压紧螺钉与安装室侧壁相螺接，所述安装室的上开口开设在所述活动盖上；所述光纤头为三阶梯轴结构，中间阶梯轴的直径大于上、下阶梯轴的直径；位于中间阶梯轴的上端面与活动盖之间设置有上压片，位于中间阶梯轴的下端面与安装室的底壁之间自上而下依次设置有下压片和弹片，所述弹片的表面为凹凸面。

在所述CCD成像镜头的进光口与右透镜安装孔出光口之间的光通道内设置有遮光O形圈；在所述透镜腔体的顶部设置有LED光源。

本实用新型优点在于最大限度地利用激光发射系统反射的光，形成高清晰的图像呈现在操作界面上，为利用质谱来测定蛋白质、多肽等分析大分子化合物时保证了良好的分辨率和准确度，方便使用者时时对样靶状态进行清晰观察。

附图说明

图1是本实用新型的外观结构示意图。

图2是图1的A-A向剖视结构示意图。

图3是图2的I部放大结构示意图。