[实用新型]成膜装置

摘要

本实用新型提供成膜装置。成膜装置具有：具有排气系统的真空容器；成膜区域，其形成于真空容器内；反应区域，其形成于真空容器内，并与成膜区域在空间上分离；阴极电极，其搭载靶材；溅射电源，其使面对靶材的被溅射面的成膜区域内产生溅射放电；等离子体产生单元，其使反应区域内产生通过在成膜区域内发生的溅射放电而形成的溅射等离子体之外的其他等离子体；将多个基板保持在外周面上的基板保持器；和使基板保持器旋转的驱动单元，借助驱动单元使基板保持器旋转，使基板在成膜区域内的规定的位置与反应区域内的规定的位置之间反复移动，成膜装置还具备：基板电极，其从背面搭载由基板保持器保持的基板；和偏置电源，其向基板电极供给电力。

主权项

一种成膜装置，其特征在于，所述成膜装置具有：真空槽，其具有排气系统；成膜区域，其形成于真空槽内；反应区域，其形成于真空槽内，并且被配置成与成膜区域在空间上分离；阴极电极，其搭载靶材；溅射电源，其使面对靶材的被溅射面的成膜区域内产生溅射放电；等离子体产生单元，其使反应区域内产生溅射等离子体之外的其他等离子体，所述溅射等离子体是通过在成膜区域内产生的溅射放电而形成的；筒状的基板保持器，其将多个基板保持在外周面上；以及驱动单元，其使基板保持器旋转，通过驱动单元使基板保持器旋转，由此使基板在成膜区域内的规定的位置与反应区域内的规定的位置之间反复移动，所述成膜区域是利用溅射等离子体从靶材释放出的溅射粒子所到达的区域，所述反应区域是被暴露于溅射等离子体之外的其他等离子体的区域，其中，所述成膜装置还具备：基板电极，其从背面搭载由基板保持器保持的基板；和偏置电源，其向基板电极供给电力，所述成膜装置构成为，将靶材搭载在阴极电极上并接通溅射电源，使等离子体产生单元工作，并且，将多个基板保持在基板保持器的外周面上，并且一边向基板电极供给电力从而对基板施加电压，一边使基板保持器旋转，由此使得从靶材释放出的溅射粒子到达已经移动到成膜区域中的基板进行堆积，同时，进行使溅射等离子体中的离子撞击基板或溅射粒子的堆积物的等离子体处理，形成中间薄膜，然后，进行使溅射等离子体之外的其他等离子体中的离子撞击已经移动到反应区域中的基板的中间薄膜的等离子体再处理，将所述中间薄膜转换为超薄膜，然后，使多层该超薄膜层叠而形成薄膜。