[实用新型]新型光臂放大式二维线性测头

摘要

本实用新型公开了一种新型光臂放大式二维线性测头，包括用于发射两条激光束的两个激光源；用于反射每束激光束的测头基座，测头基座设有至少两个反射面以及测杆和测球；用于接收两条反射激光束的两个光电探测器；用于使测头基座，或光电探测器与测头基座一起，做直线运动的平移部件，以改变测头基座反射面上的两条激光束反射点位置的平移部件；用于将测头基座回复至初始位置的回复部件；用于计算获得测球位移变化值的处理系统。该二维线性测头通过两个光电探测器能够得到在两个不同直线方向的位移量，以补偿被测工件定位时的测量偏差，获得更为准确的测量坐标，提高了测量精度，简化了结构，降低了生产成本，易于批量加工制造。

主权项

一种新型光臂放大式二维线性测头，其特征在于，包括：两个激光源，用于发射两条激光束，即激光源一(11)发射激光束一(21)，激光源二(12)发射激光束二(22)；测头基座(4)，包括至少两个反射面，用于反射每个所述激光源发射的激光束，所述测头基座上设有用于检测的测杆(6)和测球(7)；两个光电探测器，即光电探测器一(31)、光电探测器二(32)，分别用于接收所述测头基座(4)上反射面反射的激光束一(21)、激光束二(22)；平移部件，用于使所述测头基座(4)做直线运动，或用于使所述测头基座(4)与光电探测器共同做直线运动，以改变所述测头基座(4)反射面上的所述激光束一(21)、激光束二(22)的反射点位置；回复部件(5)，用于将所述测头基座(4)回复至初始位置，或将所述测头基座(4)与光电探测器(3)共同回复至初始位置；处理系统，根据所述光电探测器一(31)、光电探测器二(32)上分别接收到的激光束一(21)，激光束二(22)反射位置变化值，计算得到所述测球(7)的位移变化值。