[实用新型]一种晶圆双面化学机械研磨抛光用冷却装置有效
| 申请号： | 201520729465.0 | 申请日： | 2015-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN204997529U | 公开（公告）日： | 2016-01-27 |
| 发明（设计）人： | 黄晓波;杭鲁滨;程武山;朱蓓;卢建伟;冯初锷;方潜锋 | 申请（专利权）人： | 上海工程技术大学 |
| 主分类号： | B24B55/02 | 分类号： | B24B55/02;B24B57/02;B24B37/34 |
| 代理公司： | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 | 代理人： | 周兵 |
| 地址： | 201620 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种晶圆双面化学机械研磨抛光用冷却装置，包括设于研磨抛光机构上的冷却机构、调节系统和显示控制系统，冷却机构包括冷却盘体，冷却盘体的内部通过冷却通道形成冷却腔，冷却通道包括内圈圆环形的通道和外圈环状波浪形的通道。本实用新型结构简单，操作方便，冷却液沿特定的冷却通道对下磨盘进行强制冷却，有效地控制了晶圆的加工温度，提高了晶圆研磨抛光的表面质量，降低了晶圆碎片概率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双面 化学 机械 研磨 抛光 冷却 装置 | ||
【主权项】：
一种晶圆双面化学机械研磨抛光用冷却装置，包括设于研磨抛光机构上的冷却机构、调节系统和显示控制系统，其特征在于：所述冷却机构包括冷却盘体，冷却盘体的内部通过冷却通道形成冷却腔，冷却通道包括内圈圆环形的通道和外圈环状波浪形的通道。
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