[实用新型]水浸线聚焦探头有效
| 申请号： | 201520514816.6 | 申请日： | 2015-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN204757986U | 公开（公告）日： | 2015-11-11 |
| 发明（设计）人： | 周南岐 | 申请（专利权）人： | 常州市常超电子研究所有限公司 |
| 主分类号： | G01C15/00 | 分类号： | G01C15/00 |
| 代理公司： | 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙) 32258 | 代理人： | 姚玲 |
| 地址： | 213000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种水浸线聚焦探头，包括壳体，所述壳体具有探测面和两个相对的侧面，两个侧面均与探测面垂直，且其中一个侧面上具有刻度线，所述刻度线延伸到刻度线所在的侧面与探测面的相交线上，具有刻度线的侧面上设置有一红外发射器，所述红外发射器的发射方向与刻度线的延伸方向平行。本实用新型的水浸线聚焦探头，设置了红外发射器，可以用于对准起始刻度或探伤位置，减少探测误差。 | ||
| 搜索关键词： | 水浸线 聚焦 探头 | ||
【主权项】：
一种水浸线聚焦探头，其特征在于：包括壳体(1)，所述壳体(1)具有探测面(a)和两个相对的侧面，两个侧面均与探测面(a)垂直，且其中一个侧面上具有刻度线(1‑2)，所述刻度线(1‑2)延伸到刻度线(1‑2)所在的侧面与探测面(a)的相交线(b)上，具有刻度线(1‑2)的侧面上设置有一红外发射器(2)，所述红外发射器(2)的发射方向与刻度线(1‑2)的延伸方向平行。
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