[实用新型]用于防止晶片背面污染的显影装置有效
| 申请号： | 201520490912.1 | 申请日： | 2015-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN204903943U | 公开（公告）日： | 2015-12-23 |
| 发明（设计）人： | 金海猷;魏明德 | 申请（专利权）人： | 徐州同鑫光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 徐州支点知识产权代理事务所(普通合伙) 32244 | 代理人： | 张荣亮 |
| 地址： | 221000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开一种用于防止晶片背面污染的显影装置，包旋括转真空吸柱(1)、晶片(2)、内部旋转挡板(3)和护圈(4)，晶片水平放置在旋转真空吸柱的正上方，内部旋转挡板布置在晶片的下方位于旋转真空吸柱外侧，护圈安装在内部旋转挡板与晶片之间，内部旋转挡板可上下左右移动的安装在旋转真空吸柱外侧，通过移动内部旋转挡板可调整内部旋转挡板与晶片之间的间隙，防止涂抹在晶片表面的显影液流到背面，减少对晶片、内部旋转挡板及旋转真空吸柱造成的污染。本实用新型可以防止显影液导致的晶片背面污染，提高了良率，减少了对后续蚀刻工艺的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 防止 晶片 背面 污染 显影 装置 | ||
【主权项】：
一种用于防止晶片背面污染的显影装置，包括旋转真空吸柱(1)、晶片(2)、内部旋转挡板(3)和护圈(4)，晶片(2)水平放置在旋转真空吸柱(1)的正上方，内部旋转挡板(3)布置在晶片(2)的下方位于旋转真空吸柱(1)外侧，护圈(4)安装在内部旋转挡板(3)与晶片(2)之间，其特征在于，所述内部旋转挡板(3)可上下左右移动的安装在旋转真空吸柱(1)外侧，通过移动内部旋转挡板(3)可调整内部旋转挡板(3)与晶片(2)之间的间隙，防止涂抹在晶片(2)表面的显影液流到背面，减少对晶片(2)、内部旋转挡板(3)及旋转真空吸柱(1)造成的污染。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于徐州同鑫光电科技股份有限公司，未经徐州同鑫光电科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201520490912.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
