[实用新型]化学机械抛光装置用承载头的隔膜以及化学机械抛光装置用承载头有效
| 申请号： | 201520433325.9 | 申请日： | 2015-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN204913592U | 公开（公告）日： | 2015-12-30 |
| 发明（设计）人： | 孙准皓 | 申请（专利权）人： | K.C.科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/27 | 分类号： | B24B37/27;B24B37/34 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 姜虎;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本实用新型涉及化学机械抛光装置用承载头的隔膜以及化学机械抛光装置用承载头，上述化学机械抛光装置用承载头的隔膜包括：底板，由可挠性材质形成，在化学机械抛光工序中其底面与晶片的板面相接触；侧面，由可挠性材质形成，弯曲形成在上述底板的边缘；以及第一环形固定体，呈环形，并固定于上述侧面的一面，上述第一环形固定体由硬度高于上述侧面的硬度的材质形成，在上述第一环形固定体的内周面和外周面的至少一个面上形成有环形槽，并借助上述环形槽缓冲通过上述侧面传递的垂直力，通过隔膜的侧面向晶片边缘传递的加压力过多时，通过第一环形固定体的环形槽，第一环形固定体位移而吸收压力并缓冲，从而能够防止向晶片的边缘施加过多的压力。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 装置 承载 隔膜 以及 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光装置用承载头的隔膜，其特征在于，包括：底板，由可挠性材质形成，在化学机械抛光工序中其底面与晶片的板面相接触；侧面，由可挠性材质形成，弯曲形成在上述底板的边缘；以及第一环形固定体，呈环形，并固定于上述侧面的一面，上述第一环形固定体由硬度高于上述侧面的硬度的材质形成，在上述第一环形固定体的内周面和外周面的至少一个面上形成有环形槽，并借助上述环形槽来缓冲通过上述侧面传递的垂直力。
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