[实用新型]四镜环形腔选模装置

摘要

本实用新型涉及一种四镜环形腔选模装置，由激光晶体(1)、第一偏振器(2)、法拉第旋转器(3)、第二偏振器(4)和第一反射镜(5)、第二反射镜(6)、第三反射镜(7)三个反射镜构成，其中三个反射镜呈三角形设置，所述激光晶体(1)设置在第一反射镜(5)和第三反射镜(7)之间，所述法拉第旋转器(3)设置在第一反射镜(5)和第二反射镜(6)之间。本实用新型提供的构造简单、制造方便，光束在其中只能单向传播，在行波腔中，光强最大值不是固定在空间某处，而是随着光波的传播而改变的，受激辐射即可均匀地消耗介质反转粒子数，消除了驻波效应。由于增益饱和，在各纵模问的模式竞争中，使中心频率的纵模占优势，最终获得单纵模激光输出。

主权项

一种四镜环形腔选模装置，其特征在于：所述环形腔选模装置由激光晶体(1)、第一偏振器(2)、第一法拉第旋转器(3)、第二偏振器(4)、第三偏振器(5)、第二法拉第旋转器(6)、第四偏振器(7)和第一反射镜(8)、第二反射镜(9)、第三反射镜(10)、第四反射镜(11)四个反射镜构成，其中四个反射镜呈四边形设置，所述激光晶体(1)设置在第一反射镜(8)和第四反射镜(11)之间，所述第一法拉第旋转器(3)设置在第一反射镜(8)和第二反射镜(9)之间，所述第二法拉第旋转器(6)设置在第三反射镜(10)和第四反射镜(11)之间。