[实用新型]一种链式湿法刻蚀机有效
| 申请号： | 201520239454.4 | 申请日： | 2015-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN204760404U | 公开（公告）日： | 2015-11-11 |
| 发明（设计）人： | 黄明;戚祖伟;陈圆;杨晓琴 | 申请（专利权）人： | 上饶光电高科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18 |
| 代理公司： | 江西省专利事务所 36100 | 代理人： | 杨志宇 |
| 地址： | 334100 江西*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种链式湿法刻蚀机，通过改变水洗槽风刀的结构，在原有风刀使用压缩空气的进气管道上直接连接到后面烘干槽管道，使用热风吹干，减少碱结晶堵塞的机率，热风也能提升风刀的吹干效果，从而降低不良品产生的机率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 链式 湿法 刻蚀 | ||
【主权项】：
一种链式湿法刻蚀机，其特征在于：包括烘干槽（1）、第一水洗槽（2）、酸洗槽（3）、第二水洗槽（4）、风刀（5）、进气管（6），烘干槽（1）、第一水洗槽（2）、酸洗槽（3）和第二水洗槽（4）依次连接，第二水洗槽（4）设有风刀（5），第二水洗槽（4）和烘干槽（1）通过进气管（6）连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
