[实用新型]带有均流管的刻蚀槽有效
申请号: | 201520166486.6 | 申请日: | 2015-03-23 |
公开(公告)号: | CN204497259U | 公开(公告)日: | 2015-07-22 |
发明(设计)人: | 曾石发 | 申请(专利权)人: | 中建材浚鑫科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 苏州中合知识产权代理事务所(普通合伙) 32266 | 代理人: | 李中华 |
地址: | 214400 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种带有均流管的刻蚀槽,包括槽体,所述槽体的上部并排均匀的设置有若干个管体,所述管体的下部沿着同一水平位置均匀的开设有若干个通风孔,所述管体的上部中心位置设置有一个与主排风管道相连接的连接孔。在刻蚀槽中增加若干根均流管,使刻蚀槽的排风,气流均匀排出,从而改善刻蚀工序中生产时出现中间两个轨道刻蚀不均,容易过刻的现象。改善电池片边缘漏电的问题,从而提高电池片的效率。减少因天气,排风不稳定时导致的刻边宽,导致返工,或者电池部分边缘漏电。提高电池片的开路电压和电流,最终提高效率,简单方便,降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 带有 流管 刻蚀 | ||
【主权项】:
一种带有均流管的刻蚀槽,其特征在于:包括槽体(4),所述槽体(4)的上部并排均匀的设置有若干个管体(1),所述管体(1)的下部沿着同一水平位置均匀的开设有若干个通风孔(2),所述管体(1)的上部中心位置设置有一个与主排风管道相连接的连接孔(3)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的