[实用新型]曝光系统及其微透镜组有效

专利信息
申请号: 201520081305.X 申请日: 2015-02-05
公开(公告)号: CN204462639U 公开(公告)日: 2015-07-08
发明(设计)人: 陈赞仁;施誌华;田中智树;涂俊铭 申请(专利权)人: 东捷科技股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 广东国欣律师事务所 44221 代理人: 李文
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型的曝光系统包括一光源装置、一第一透镜组、一第二透镜组、一微透镜组及一光学透镜。光源装置用以产生多个曝光光束。微透镜组具有一本体。本体有多个凹透镜。每一凹透镜具有一顶平面及朝顶平面方向内凹的一底弧面。该多个凹透镜的顶平面是面向第一透镜组,其底弧面是面向第二透镜组。该多个凹透镜的底弧面背对顶平面,且面向第二透镜组。该多个曝光光束在该多个凹透镜的底弧面的背后形成多个虚像光点。该多个虚像光点构成的平面定义为一聚焦平面,第二透镜组撷取聚焦平面上的该多个虚像光点,且朝第二透镜组的下方投影。
搜索关键词: 曝光 系统 及其 透镜
【主权项】:
一种曝光系统,其特征在于,包括:一光源装置,用以产生多个曝光光束;一第一透镜组;一第二透镜组;及一微透镜组,有一本体,该本体有多个凹透镜,每一凹透镜具有一顶平面及朝该顶平面方向内凹的一底弧面,该多个凹透镜的顶平面面向该第一透镜组,该多个凹透镜的底弧面背对该顶平面,且面向该第二透镜组;其中,该多个曝光光束在该多个凹透镜的底弧面的背后形成多个虚像光点,该多个虚像光点构成的平面定义为一聚焦平面,该第二透镜组用以撷取该聚焦平面上的该多个虚像光点,且朝该第二透镜组的下方投影。
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