[实用新型]曝光系统及其微透镜组有效
申请号: | 201520081305.X | 申请日: | 2015-02-05 |
公开(公告)号: | CN204462639U | 公开(公告)日: | 2015-07-08 |
发明(设计)人: | 陈赞仁;施誌华;田中智树;涂俊铭 | 申请(专利权)人: | 东捷科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 广东国欣律师事务所 44221 | 代理人: | 李文 |
地址: | 中国台湾台南*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型的曝光系统包括一光源装置、一第一透镜组、一第二透镜组、一微透镜组及一光学透镜。光源装置用以产生多个曝光光束。微透镜组具有一本体。本体有多个凹透镜。每一凹透镜具有一顶平面及朝顶平面方向内凹的一底弧面。该多个凹透镜的顶平面是面向第一透镜组,其底弧面是面向第二透镜组。该多个凹透镜的底弧面背对顶平面,且面向第二透镜组。该多个曝光光束在该多个凹透镜的底弧面的背后形成多个虚像光点。该多个虚像光点构成的平面定义为一聚焦平面,第二透镜组撷取聚焦平面上的该多个虚像光点,且朝第二透镜组的下方投影。 | ||
搜索关键词: | 曝光 系统 及其 透镜 | ||
【主权项】:
一种曝光系统,其特征在于,包括:一光源装置,用以产生多个曝光光束;一第一透镜组;一第二透镜组;及一微透镜组,有一本体,该本体有多个凹透镜,每一凹透镜具有一顶平面及朝该顶平面方向内凹的一底弧面,该多个凹透镜的顶平面面向该第一透镜组,该多个凹透镜的底弧面背对该顶平面,且面向该第二透镜组;其中,该多个曝光光束在该多个凹透镜的底弧面的背后形成多个虚像光点,该多个虚像光点构成的平面定义为一聚焦平面,该第二透镜组用以撷取该聚焦平面上的该多个虚像光点,且朝该第二透镜组的下方投影。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东捷科技股份有限公司,未经东捷科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201520081305.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:阻焊显影机显影缸喷淋系统
- 下一篇:一种闪光灯固定架结构