[实用新型]柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机有效
| 申请号： | 201520053791.4 | 申请日： | 2015-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN204509447U | 公开（公告）日： | 2015-07-29 |
| 发明（设计）人： | 谈琦 | 申请（专利权）人： | 四川亚力超膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙) 51227 | 代理人： | 周永宏 |
| 地址： | 610106 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机，包括真空室及其内部的卷绕系统、溅射系统和前处理系统；真空系统用于将真空室内抽真空至磁控溅射需要的真空环境；卷绕系统用于实现基材的放卷和收卷，卷绕系统包括放卷机构、第一镀膜鼓、第二镀膜鼓和收卷机构；由放卷机构释放的基材经第一镀膜鼓和第二镀膜鼓，再由收卷机构进行收卷；溅射系统用于对经过第一镀膜鼓和第二镀膜鼓的基材进行镀膜得到镀膜产品；前处理系统用于对基材的两个表面同时进行处理，活化基材表面。本实用新型采用具有两个镀膜鼓的镀膜机，能够一次性完成柔性基材的双面镀膜，比传统的采用两个生产周期的镀膜方式，能够缩短生产时间，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 柔性 基材 双面 磁控溅射 卷绕 镀膜 | ||
【主权项】：
柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于，包括真空系统、卷绕系统(2)、溅射系统(3)和前处理系统(4)，真空系统包括真空室(1)和真空泵；卷绕系统(2)、溅射系统(3)和前处理系统(4)均设置在真空室(1)内；所述的真空系统用于将真空室(1)内抽真空至磁控溅射需要的真空环境；所述的卷绕系统(2)用于实现基材(8)的放卷和收卷，卷绕系统(2)包括放卷机构(201)、第一镀膜鼓(207)、第二镀膜鼓(217)和收卷机构(222)；由放卷机构(201)释放的基材(8)经第一镀膜鼓(207)和第二镀膜鼓(217)，再由收卷机构(222)进行收卷；第一镀膜鼓(207)与第二镀膜鼓(217)相邻的方向分别为两次镀膜的基材(8)的进入方向；所述的溅射系统(3)用于对经过第一镀膜鼓(207)和第二镀膜鼓(217)的基材(8)进行镀膜得到镀膜产品；所述的前处理系统(4)用于对基材(8)的两个表面同时进行处理，有效除去基材(8)表面的油污和水蒸气，活化基材表面。
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