[发明专利]一种用于等离子反应装置的喷淋头加热冷却装置及方法有效
申请号: | 201510985474.0 | 申请日: | 2015-12-25 |
公开(公告)号: | CN106922071B | 公开(公告)日: | 2019-10-01 |
发明(设计)人: | 徐朝阳;雷仲礼;杨金全 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 |
主分类号: | H05H1/26 | 分类号: | H05H1/26;H05H1/28 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 朱成之 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的公开了一种用于等离子反应装置的喷淋头加热冷却装置及方法,采用喷淋头结构、加热结构及冷却结构建立形成喷淋头加热冷却装置;上述部件的组合能够实现反应气体在进入等离子反应腔之前,反应气体在喷淋头结构、加热结构及冷却结构中进行充分混合、预热;并且能够在等离子反应腔内进行晶片刻蚀的过程中,根据实时探测加热结构的温度以及冷却结构不断地对该加热结构进行降温,从而保证反应气体温度保持不变,提高刻蚀效率、产品质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 等离子 反应 装置 喷淋 加热 冷却 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于等离子反应装置的喷淋头加热冷却装置,该喷淋头加热冷却装置设置于等离子反应装置的反应腔顶部,使得该反应腔内部密封,其特征在于,该喷淋头加热冷却装置包含:喷淋头结构,所述喷淋头结构设置在所述反应腔上方,该喷淋头结构内设置有多个喷淋气道;加热结构,设置在所述喷淋头结构上方,并且加热结构的下表面与喷淋头结构的上表面接触,所述加热结构内设置第一冷却液管道;冷却结构,设置在所述加热结构上方,所述冷却结构设有第二冷却液管道;所述第一冷却液管道与所述第二冷却液管道独立控制;所述冷却结构的下表面与该加热结构的上表面在贴合区域内互相贴合,所述贴合区域包括中心区域和外围区域,冷却结构下表面和加热结构之间还包括隔离区域,所述隔离区域位于所述中心区域和外围区域之间,隔离区域内设有至少一个环形气体槽将冷却结构的下表面和加热结构的上表面互相隔离,所述环形气体槽与所述喷淋头结构内的多个喷淋气道互相联通;所述加热结构包含多个加热器:所述加热结构的中心区域内包括第一加热器,外围区域内包括第二加热器,所述第一加热器和第二加热器独立控制;多个所述环形气体槽能够将所述多个加热器产生的热量在对应的所述环形气体槽内进行传导。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中微半导体设备(上海)股份有限公司,未经中微半导体设备(上海)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510985474.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种基于聚类的交叠信号消除方法及系统
- 下一篇:一种微缩胶片数码阅读器