[发明专利]基于基准点的相关显微术在审
| 申请号： | 201510959643.3 | 申请日： | 2015-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN105717078A | 公开（公告）日： | 2016-06-29 |
| 发明（设计）人： | S.兰多尔夫;J.米亚萨基;M.斯特劳 | 申请（专利权）人： | FEI公司 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64;G01N23/223 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 周学斌;王传道 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及基于基准点的相关显微术。提供了一种用于制备用于相关的光学和电子成像的样本以及校正在图像处理过程中由于样本变形而引起的像差的方法。涂有染料的基准标记遍及样本体积而分布。基准标记优选地以聚苯乙烯纳米球体的形式，该聚苯乙烯纳米球体在其表面上被功能化以及随后用荧光染料来处理。该染料并不渗入球体而是仅绑定到表面。通过将染料限制到纳米球体的表面上，在iPALM图像中以及在带电粒子图像中可以确定球体的形状，从而帮助追踪可能对样本体积发生的物理变化。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 基准点 相关 显微 | ||
【主权项】：
一种用于利用光学图像和带电粒子图像对样本体积中的感兴趣区域的位置进行三维相关的方法，包括：提供包括样本体积的样本，所述样本体积包含感兴趣区域以及包括分布在所述样本体积内的基准点，所述基准点在所述样本体积的光学图像和带电粒子图像两者中都是可识别的；使用光学系统对所述样本体积进行成像；使用带电粒子束对所述样本体积进行成像；以及使用在所述光学图像和带电粒子束图像两者中识别的基准点的位置来使所述样本体积中的感兴趣区域的位置相关。
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