[发明专利]三层膜、三层膜的制造方法、层叠板和印刷电路基板在审
| 申请号： | 201510940431.0 | 申请日： | 2015-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN105711207A | 公开（公告）日： | 2016-06-29 |
| 发明（设计）人： | 伊藤丰诚;杉山贵之;根津秀明 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/06 | 分类号： | B32B27/06;B32B27/28;B32B9/00;B32B15/04;B32B37/24;B32B38/16;B32B37/06;H05K1/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 高旭轶;杨思捷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及三层膜、三层膜的制造方法、层叠板和印刷电路基板。该三层膜包含聚酰亚胺树脂膜和层叠于聚酰亚胺树脂膜的两面的以羟基羧酸作为液晶原基团的液晶聚合物层，前述聚酰亚胺树脂膜的厚度（T1）与前述以羟基羧酸作为液晶原基团的液晶聚合物层的厚度（T2）满足以下的关系式（a）和（b）（其中，两个T2彼此独立，可以相同也可以不同）。（a）20μm≤T1≤50μm；（b）0.3≤T2/T1≤1.5。 | ||
| 搜索关键词： | 三层 制造 方法 层叠 印刷 路基 | ||
【主权项】：
三层膜，其中，在聚酰亚胺树脂膜的两面上层叠有以羟基羧酸作为液晶原基团的液晶聚合物层，所述聚酰亚胺树脂膜的厚度（T1）与所述以羟基羧酸作为液晶原基团的液晶聚合物层的厚度（T2）满足以下的关系式（a）和（b），其中，两个T2彼此独立，可以相同也可以不同，（a）20μm≤T1≤50μm（b）0.3≤T2/T1≤1.5。
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