[发明专利]一种青霉素G钠表面分子印迹聚合物的制备方法及其应用在审
| 申请号： | 201510934634.9 | 申请日： | 2015-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN105384872A | 公开（公告）日： | 2016-03-09 |
| 发明（设计）人： | 刘宏程;沈报春;杨倩 | 申请（专利权）人： | 云南省农业科学院质量标准与检测技术研究所 |
| 主分类号： | C08F222/14 | 分类号： | C08F222/14;C08F220/06;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30 |
| 代理公司： | 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 | 代理人： | 董芙蓉 |
| 地址： | 650223 云南省*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种青霉素G钠表面分子印迹聚合物的制备方法，将青霉素G钠溶于一定的溶液，所述一定的溶剂为二甲基亚砜和甲醇体积比为4:1的混合物；然后，加入功能单体搅拌，再加入交联剂、引发剂，氮气除氧，加热反应；反应结束后洗去模板分子青霉素G钠，干燥，即得青霉素G钠表面分子印迹聚合物。本发明与现有技术相比的优点是：本发明的青霉素G钠表面分子印迹聚合物制备过程简单，可操作性强，制备成本低廉，对青霉素钠分子结合速度快、特异性强、结合容量高、吸附平衡时间短。所制备的青霉素G钠分子印迹聚合物对目标样品选择性高，专属性强，模板分子可回收重复使用等优点，可用于检测牛奶中一定范围内的青霉素G钠残留。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 青霉素 表面 分子 印迹 聚合物 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种青霉素G钠表面分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于：将青霉素G钠溶于一定的溶液，所述一定的溶剂为二甲基亚砜(DMSO)和甲醇体积比为4:1的混合物；然后，加入功能单体搅拌，再加入交联剂、引发剂，氮气除氧，加热反应；反应结束后洗去模板分子青霉素G钠，干燥，即得青霉素G钠表面分子印迹聚合物。
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