[发明专利]煎烤条件分析系统与方法

摘要

一种煎烤条件分析系统与方法，包含一个用于放置食物的煎烤装置，及一个拍摄分析装置。该拍摄分析装置包括一个操作单元、一个分析单元，及一个处理单元。该操作单元可被操作撷取一个正面影像，并从侧边撷取一个侧面影像。该分析单元会对该正面影像进行分析，而产生一个代表该食物面积的面积参数，并对该侧面影像进行分析，而产生一个代表该食物厚度的厚度参数，该处理单元能根据该面积参数与该厚度参数，产生相对应的烤制时间。通过本发明能提供适当的烤制时间，能有利于使用者利用该烤制时间煎烤出所欲达到的熟成程度的食物。

主权项

1.一种煎烤条件分析系统，包含：一个煎烤装置，该煎烤装置包括一个用以放置食物的基座，其特征在于：该煎烤装置还包括数个设置于该基座的第一特征元件，及数个设置于该基座侧边的第二特征元件，该煎烤条件分析系统还包含一个拍摄分析装置，该拍摄分析装置包括一个操作单元、一个分析单元，及一个处理单元，该操作单元能被操作撷取一个含有该食物与所述第一特征元件的正面影像，还能从侧边撷取一个含有所述第二特征元件的侧面影像，该分析单元包括一个面积分析模块，及一个厚度分析模块，该面积分析模块会对该操作单元所撷取的该正面影像进行分析，而产生一个代表该食物面积的面积参数，该厚度分析模块会对该操作单元所撷取的该侧面影像进行分析，而产生一个代表该食物厚度的厚度参数，该处理单元能根据该分析单元产生的面积参数与厚度参数，产生相对应的烤制时间，该基座具有一个底盘，该底盘具有一个用以供该食物放置的中央部，及一个围绕该中央部并供所述第一特征元件间隔设置的围绕部，该面积分析模块能对该正面影像的食物进行影像分析，且以所述第一特征元件间的相对距离为基准，计算出该面积参数。