[发明专利]用于防止雾度的掩模表膜指示物有效
| 申请号： | 201510843150.3 | 申请日： | 2015-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN106324982B | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 林冠文;秦圣基;许庭豪;周子婷;吴书贤 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 路勇 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;TW |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于防止雾度的掩模表膜指示物。具体而言，本发明提供一种表膜掩模组合件，其包含掩模、表膜框架和表膜薄膜。所述表膜框架具有附着到所述掩模的底侧和由所述表膜薄膜覆盖的顶侧。所述表膜框架包含在其内表面上的涂层且所述涂层经配置以监测所述表膜掩模组合件内部的环境变化。在实施例中，所述环境变化包含所述表膜掩模组合件内部增大的湿度和/或增大的化学离子密度。还揭示制造和使用所述表膜掩模组合件的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 防止 掩模表膜 指示 | ||
【主权项】：
1.一种在半导体制造中的设备，其包括：/n掩模；/n表膜框架，其具有底侧和顶侧，其中所述底侧附着到所述掩模；以及/n表膜薄膜，其覆盖所述表膜框架的所述顶侧，/n其中所述掩模、所述表膜框架和所述表膜薄膜形成掩模组合件，且其中所述表膜框架包含在其内表面上的涂层且所述涂层经配置以监测所述掩模组合件内部的环境变化而显示不同色彩，其中所述环境变化包括不同等级的湿度或化学离子密度。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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