[发明专利]一种纳米颗粒粒径的测量方法及其测量系统在审
| 申请号： | 201510824396.6 | 申请日： | 2015-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN105510192A | 公开（公告）日： | 2016-04-20 |
| 发明（设计）人： | 岳成凤;唐志列;韩鹏;彭力;吴泳波 | 申请（专利权）人： | 华南师范大学 |
| 主分类号： | G01N15/02 | 分类号： | G01N15/02 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人： | 吴静芝 |
| 地址： | 510006 广东省广州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种纳米颗粒粒径的测量方法，包括如下步骤：S1：测得待测样品的光强自相关函数曲线；S2：测得参考样品的光强自相关函数曲线；S3：对待测样品和参考样品的光强自相关函数曲线采用对数函数斜率法进行处理，得到待测样品的颗粒粒径。本发明所述的纳米颗粒粒径的测量方法，采用对数函数斜率法对得到的光强自相关函数曲线进行处理，可以通过已知颗粒的粒径得到待测样品颗粒的粒径，更加方便快捷，简单准确。本发明还提供一种纳米颗粒粒径的测量系统。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 颗粒 粒径 测量方法 及其 测量 系统 | ||
【主权项】：
一种纳米颗粒粒径的测量方法，其特征在于：包括如下步骤：S1：测得待测样品的光强自相关函数曲线；S2：测得参考样品的光强自相关函数曲线；S3：对待测样品和参考样品的光强自相关函数曲线采用对数函数斜率法进行处理，得到待测样品的颗粒粒径。
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