[发明专利]一种薄膜制作工艺在审
| 申请号： | 201510819063.4 | 申请日： | 2015-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN105420676A | 公开（公告）日： | 2016-03-23 |
| 发明（设计）人： | 焦国平;齐继业;方兴旺 | 申请（专利权）人： | 安徽松泰包装材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08;C23C14/58 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 246000 安徽省安庆市桐城*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种薄膜制作工艺，其具体步骤为：采用金刚石基片，将基片在丙酮、无水乙醇以及去离子水中依次超声10-12min，在氮气环境下烘干，置于溅射台上，以体积比2:1的氩气和氧气混合气体将氧化锌靶溅射至金刚石基片上，沉积时间为30min，对沉积后的薄膜进行快速退火处理，退火温度750℃，保温时间30min，通过本发明工艺提供的一种薄膜制作工艺而制备所得氧化锌薄膜表面形态优异，晶格强度好，而且制作的步骤简单，加快了制作的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 制作 工艺 | ||
【主权项】：
一种薄膜制作工艺，其特征在于，其具体步骤为：(1)采用金刚石基片，将基片在丙酮、无水乙醇以及去离子水中依次超声10‑12min，在氮气环境下烘干，置于溅射台上；(2)以体积比2:1的氩气和氧气混合气体将氧化锌靶溅射至金刚石基片上，沉积时间为30min；(3)对沉积后的薄膜进行快速退火处理，退火温度750℃，保温时间30min。
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