[发明专利]仙客来植株愈伤组织和芽的培养基及培养方法在审

专利信息
申请号: 201510809317.4 申请日: 2015-11-20
公开(公告)号: CN105340745A 公开(公告)日: 2016-02-24
发明(设计)人: 何玉池;周雪;孙文超;王真梅;卢翔宇;王桂友;宋兆建;蔡得田 申请(专利权)人: 湖北大学
主分类号: A01H4/00 分类号: A01H4/00
代理公司: 武汉河山金堂专利事务所(普通合伙) 42212 代理人: 胡清堂
地址: 430062 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种诱导仙客来叶片形成愈伤组织和芽的培养基及培养方法,通过“二步法”高效诱导仙客来愈伤组织和芽的形成,有效抑制外植体褐化。首先,外植体叶片采取前,将仙客来植株遮光处理24~26小时,随后离体低温(20℃~22℃)黑暗培养,有效解决了褐化问题;其次,通过低温黑暗培养,诱导愈伤组织,30~40天后提高培养温度至25℃~28℃,光照培养诱导成芽;最后,芽形成15~20天后诱导生根。该技术体系能有效抑制褐化,繁殖系数高,并能保存F1代的原有性状和杂种优势,为仙客来种苗的工厂化生产提供关键技术支撑。
搜索关键词: 仙客来 植株 组织 培养基 培养 方法
【主权项】:
一种诱导仙客来叶片形成愈伤组织和芽的培养基,其组分包括,组分浓度(mg/L)NH4NO3820~825KNO3945~950CaCl2·2H2O或CaCl2215~220MgSO4·7H2O180~185KH2PO480~85KI0.40~0.45H3BO33.0~3.1MnSO4·7H2O11.0~11.2ZnSO4·7H2O4.0~4.5Na2MnO4·2H2O0.1~0.2CuSO4·5H2O0.01~0.02CoCl2·6H2O0.01~0.02FeSO4·7H2O13.5~14.0Na2·EDTA·2H2O18.0~18.7肌醇45~50烟酸0.2~0.3盐酸吡哆醇0.2~0.3盐酸硫胺素0.04~0.05甘氨酸0.8~1.02,4‑D1.8~2.06‑BA0.18~0.2KT0.18~0.2
此外,还包括占培养基总质量百分比为3.0~3.2%的蔗糖和占培养基总质量百分比为0.8~0.9%的琼脂,培养基pH值5.8~6.0。
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