[发明专利]氧化铟锡镀膜方法在审
| 申请号： | 201510751242.9 | 申请日： | 2015-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN105331929A | 公开（公告）日： | 2016-02-17 |
| 发明（设计）人： | 陈建伦;黄伟东;邓泽新;刘力明;李建华 | 申请（专利权）人： | 信利（惠州）智能显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 邓云鹏 |
| 地址： | 516000 广东省惠州市仲*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种氧化铟锡镀膜方法，包括如下步骤：S110、将彩色滤光片置于安装有氧化铟锡靶材的磁控溅射真空腔内；S120、对所述真空腔内进行抽真空；S130、通入工作气体，并稳定3～30s；S140、对所述工作气体进行通电，并控制所述氧化铟锡靶材的表面磁场强度，在所述彩色滤光片上形成氧化铟锡镀膜；S150、停止通入所述工作气体及停止通电，取出氧化铟锡镀膜完成的彩色滤光片，准备待处理的下一彩色滤光片，继续执行步骤S110。上述氧化铟锡镀膜方法，可以保证真空腔的洁净度，避免杂质对镀膜过程的影响，从而有效解决彩色滤光片氧化铟锡镀膜后的电阻超标现象，提高镀膜良率。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
一种氧化铟锡镀膜方法，其特征在于，包括如下步骤：S110、将彩色滤光片置于安装有氧化铟锡靶材的磁控溅射真空腔内；S120、对所述真空腔内进行抽真空；S130、通入工作气体，并稳定3～30s；S140、对所述工作气体进行通电，并控制所述氧化铟锡靶材的表面磁场强度，在所述彩色滤光片上形成氧化铟锡镀膜；S150、停止通入所述工作气体及停止通电，取出氧化铟锡镀膜完成的彩色滤光片，准备待处理的下一彩色滤光片，继续执行步骤S110。
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