[发明专利]一种微阵列用活性醛基修饰基片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510724336.7 申请日: 2015-10-29
公开(公告)号: CN105220237A 公开(公告)日: 2016-01-06
发明(设计)人: 马明星;王超 申请(专利权)人: 昆明寰基生物芯片产业有限公司
主分类号: C40B40/06 分类号: C40B40/06;C40B50/18;C12Q1/68;C03C17/28
代理公司: 昆明正原专利商标代理有限公司 53100 代理人: 陈左;于洪
地址: 650224 云南省昆明市经开区信*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明涉及一种微阵列用活性醛基修饰基片及其制备方法,属于医学及生物学技术领域。本发明所提供的生物芯片基片是在氨基化表面上连接醛基基团的基片。本发明提供的醛基基片,因使用浓硫酸及等离子清洗机处理,解决了普通基片杂质点较多的问题,先使用多聚赖氨酸制成氨基化表面,并再用戊二醛作为醛基基团的供体,通过静电吸附和化学偶联的联合作用,提高了核酸的固定力,使各探针点的形状饱满,提高了基片的稳定性。因此本发明提供的醛基基片是一种优良的生物芯片探针载体,可广泛应用于生物芯片制备。
搜索关键词: 一种 阵列 活性 修饰 及其 制备 方法
【主权项】:
一种微阵列用活性醛基修饰基片的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤(1),玻片的预处理:将玻片依次采用等离子清洗机和质量浓度为98%浓硫酸清洗干净后,用纯化水将玻片表面残留的浓硫酸洗净,得到预处理后的玻片;步骤(2),多聚赖氨酸包被:将步骤(1)得到的预处理后的玻片表面包被多聚赖氨酸,然后用纯化水将玻片表面多余的未包被的多聚赖氨酸洗掉,再经烘干,冷却至室温,得到多聚赖氨酸包被玻片;步骤(3),引入活性醛基基团;将步骤(2)得到的多聚赖氨酸包被玻片使用戊二醛引入活性醛基基团,然后用纯化水将玻片表面多余的戊二醛洗掉,再经烘干,冷却至室温,得到微阵列用活性醛基修饰基片。
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