[发明专利]一种管式POCl3扩散方阻自动调整方法在审
申请号: | 201510718906.1 | 申请日: | 2015-10-29 |
公开(公告)号: | CN105428226A | 公开(公告)日: | 2016-03-23 |
发明(设计)人: | 姚剑;韩晓辉;王广为;邱江南;翟颖晗 | 申请(专利权)人: | 晋能清洁能源科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/228 | 分类号: | H01L21/228;H01L31/18 |
代理公司: | 镇江京科专利商标代理有限公司 32107 | 代理人: | 夏哲华 |
地址: | 033000 *** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 本发明公开了一种管式POCl3扩散方阻自动调整方法。它包括液态磷源扩散设备、自动上下料机器以及与液态磷源扩散设备、自动上下料机器连接的计算机,各个液态磷源扩散设备具有与之对应的通过软件程序自动生成的DLV文件,计算机内存储上述DLV文件并能够对各个液态磷源扩散设备对应温区的方阻值进行计算处理,在生产过程中,液态磷源扩散设备自动调用并读取DLV文件的相关参数,通过对DLV参数的调用,自动对液态磷源扩散设备内不同温区的扩散温度进行调整。采用上述的方法后,建立的数据链接变量文件DLV,在生产过程中,通过DLV文件的自动调用,实现连续生产过程扩散方阻的自动调节。 | ||
搜索关键词: | 一种 pocl sub 扩散 自动 调整 方法 | ||
【主权项】:
一种POCl3扩散方阻自动调整方法,其特征在于:包括液态磷源扩散设备、自动上下料机器以及与液态磷源扩散设备、自动上下料机器连接的计算机,各个所述液态磷源扩散设备具有与之对应的通过软件程序自动生成的DLV文件,所述计算机内存储上述DLV文件并能够对各个所述液态磷源扩散设备对应温区的方阻值进行计算处理,计算时各个温区分开独立计算,对应公式如下:![]()
CTEMPm=(A(R)m‑Rtarget)×Kcorr+CTEMP+TEMde其中A(R)m代表连续生产n舟的对应温区的方阻均值,Ri为第i舟对应温区的方阻计算值,CTEMPm为第m次的自动调整温度值,Rtarget为预设目标方阻值,Kcorr为与磷源液位高度相关的第m次温度调整的温度修正系数,CTEMP为炉管初始设定沉积温度,TEMde为炉管不同温区的沉积温度补偿值;在生产过程中,液态磷源扩散设备自动调用并读取DLV文件的相关参数,通过对DLV参数的调用,自动对液态磷源扩散设备内不同温区的扩散温度进行调整。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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