[发明专利]一种控制单晶环状缺陷的生产工艺在审
申请号: | 201510680994.0 | 申请日: | 2015-10-20 |
公开(公告)号: | CN105177702A | 公开(公告)日: | 2015-12-23 |
发明(设计)人: | 张浩强;冯立军;闫广宁;曹健民;李永峰 | 申请(专利权)人: | 宁晋松宫电子材料有限公司 |
主分类号: | C30B15/20 | 分类号: | C30B15/20;C30B29/06 |
代理公司: | 河北东尚律师事务所 13124 | 代理人: | 王文庆 |
地址: | 055550 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种控制单晶环状缺陷的生产工艺,生产工艺包括以下步骤:a、硅料分检:对硅料进行检测,去除电阻率低于0.5Ω·cm;少子寿命低于2μS,碳含量大于2e17atom/cc的硅料;b、硅料清洗:以氢氟酸与硝酸为原料,配制成硅料清洗液,对硅料进行清洗,之后用纯水进行清洗;c、硅成炉料配制:控制单晶头部掺杂剂的使用量,使其电阻率控制在2.5Ω·cm以上;d、拉晶:在整个拉晶过程,控制导流筒下沿与硅液表面的距离不得低于30mm;e、硅棒冷却。具有操作简便、成本低、见效快等特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 控制 环状 缺陷 生产工艺 | ||
【主权项】:
一种控制单晶环状缺陷的生产工艺,其特征在于:所述生产工艺包括以下步骤:a、硅料分检:对硅料进行检测,去除电阻率低于0.5Ω·cm;少子寿命低于2μS,碳含量大于2e17atom/cc的硅料;b、硅料清洗:以氢氟酸与硝酸为原料,配制成体积混合比为氢氟酸:硝酸=1:4~10的硅料清洗液,对硅料进行清洗,清洗完成后进行纯水清洗,将清洗液中酸的残留去除;c、硅成炉料配制:控制单晶头部掺杂剂的使用量,使其电阻率控制在2.5Ω·cm以上;d、拉晶:所述拉晶步骤具体为:1)装料操作,装料过程中,要避免硅料与石墨导流筒的接触,防止碳的混入;2)引颈操作,控制籽晶的转速:6‑9r/min,控制埚转的转速:6‑9r/min,控制坩埚上升速度:0mm/min;3)放肩操作,控制籽晶的转速:6‑9r/min,控制埚转的转速:6‑9r/min,控制坩埚上升速度:0.05‑0.15mm/min;控制放肩速度:0.65‑0.95mm/min;4)转肩操作,控制籽晶转速:6‑9r/min,控制埚转转速:6‑9r/min,控制坩埚上升速度:0.15‑0.2mm/min,控制惰性气体流速:30‑40L/min;5)等径操作,控制籽晶转速:6‑9r/min,控制埚转的转速:6‑9r/min,控制坩埚上升速度:0.15‑0.25mm/min;控制惰性气体流速:30‑40L/min;6)收尾操作,控制籽晶转速:6‑9r/min,控制埚转的转速:6‑9r/min,控制坩埚上升速度:0.15‑0.05mm/min;控制惰性气体流速:30‑40L/min;在整个拉晶过程,控制导流筒下沿与硅液表面的距离不得低于30mm;e、硅棒冷却:拉晶过程结束后,控制籽晶转速:0r/min,控制埚转的转速:6‑9r/min,控制坩埚上升速度:0mm/min,控制惰性气体流量:30‑40L/min,冷却时间为5小时以上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁晋松宫电子材料有限公司,未经宁晋松宫电子材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510680994.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:缫丝助剂
- 下一篇:一种严寒地区膨胀岩隧道保温层