[发明专利]一种氯霉素分子印迹聚合物及其制备方法

摘要

本发明公开了一种氯霉素分子印迹聚合物及其制备方法，以氯霉素为模板分子，以甲基丙烯酸为功能单体，形成主客体配合物，加入交联剂EDMA发生自由基共聚，最后用溶剂甲醇/乙酸混合液将聚合物从溶剂中沉淀出来，得到氯霉素分子印迹聚合物。其中CAP与甲基丙烯酸与EDMA的摩尔比为10.520。本发明方法生产出具有非常高的选择性和特异性的氯霉素分子印迹聚合物，有较高的稳定性、较长的使用寿命和较强的抗恶劣环境能力。本发明成本低廉、操作简单、反应条件容易控制。

主权项

一种氯霉素分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)准确称取CAP于适量的致孔剂中，充分振荡使其溶解，然后加入功能单体甲基丙烯酸，于振荡器中充分振荡使其完全反应；2)继续加入交联剂EDMA和引发剂偶氮二异丁腈，充分混匀后移入安培瓶中，使用超声波处理5min，使不存在可见固体颗粒存在，然后充氮10～15分钟；3)在酒精喷灯高温下把安培瓶拉丝密封，置于恒温水浴锅中在恒定的温度下热聚合反应完全后，制得块状聚合物；4)将制得的块状聚合物用甲醇洗去未反应的试剂，放置晾干，研钵磨碎，置于甲醇/乙酸混合液中，超声洗脱，得到氯霉素分子印迹聚合物；所述的致孔剂为四氢呋喃，所述的CAP与甲基丙烯酸的摩尔比为1:0.5；所述的交联剂的加入量为CAP与交联剂的摩尔比为1:20；所述的恒温水浴锅的温度为60℃；所述的甲醇/乙酸混合液中甲醇和乙酸的体积比为9:1。