[发明专利]一种耐受土霉素厌氧氨氧化颗粒污泥培养物的培养方法有效

专利信息
申请号: 201510613466.3 申请日: 2015-09-23
公开(公告)号: CN105152325B 公开(公告)日: 2018-01-02
发明(设计)人: 施曼玲;户海燕;金仁村;沈洋洋;阳广凤 申请(专利权)人: 杭州师范大学
主分类号: C02F3/28 分类号: C02F3/28
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司33201 代理人: 黄美娟,李世玉
地址: 310036 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种耐受土霉素厌氧氨氧化颗粒污泥培养物的培养方法,所述方法采用上流式厌氧污泥床反应器,以厌氧氨氧化颗粒污泥为接种源,以含氨氮和亚硝氮的模拟废水为进水,在厌氧、避光、温度为35±1℃、进水pH为8.10±0.14、水力停留时间为0.8~2.5h的条件下培养至反应器运行稳定,向进水中逐步分段加入土霉素继续培养,然后向反应器中补加厌氧氨氧化颗粒污泥,培养至反应器内微生物活性为初始运行时接种的厌氧氨氧化颗粒污泥生物活性的2~3倍,获得耐受土霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥培养物;按照本发明所述方法培养出来的厌氧氨氧化培养物有较好的耐受土霉素潜力,且培养物性状优良,活性高。
搜索关键词: 一种 耐受 土霉素 厌氧氨 氧化 颗粒 污泥 培养 方法
【主权项】:
一种耐受土霉素厌氧氨氧化颗粒污泥培养物的培养方法,其特征在于所述方法为:(1)采用上流式厌氧污泥床反应器,以厌氧氨氧化颗粒污泥为接种源,以含氨氮和亚硝氮的模拟废水为进水,在厌氧、避光、温度为35±1℃、进水pH为8.10±0.14、水力停留时间为0.8~2.5h的条件下培养至反应器运行稳定,向进水中逐步分段加入土霉素继续培养,所述土霉素第一次加入量以进水中土霉素终浓度计为50mg·L‑1,在厌氧、避光、温度为35±1℃、进水pH为8.10±0.14、水力停留时间为0.8~2.5h的条件下培养2周,再向进水中加入土霉素至终浓度为25mg·L‑1,继续培养2周,如此逐步分段降低进水中土霉素浓度持续培养,每次进水中加入土霉素的量为上一次添加量的50%,直至反应器运行2周后,反应器内微生物活性与首次添加土霉素培养后的活性相当;(2)然后向反应器中补加厌氧氨氧化颗粒污泥,培养至反应器内微生物活性为初始运行时接种的厌氧氨氧化颗粒污泥生物活性的2~3倍,获得耐受土霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥培养物;所述模拟废水组成为:氨氮70~280mg·L‑1,亚硝氮70~280mg·L‑1,KH2PO4 5~20mg·L‑1,CaCl2·2H2O 1~10mg·L‑1,MgSO4·2H2O 200~400mg·L‑1,KHCO3 800~1500mg·L‑1,溶剂为水。
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