[发明专利]一种提高多光子成像信号强度的方法及系统有效
| 申请号: | 201510572194.7 | 申请日: | 2015-09-09 |
| 公开(公告)号: | CN105158224B | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
| 发明(设计)人: | 王科;邱娉;梁闰富 | 申请(专利权)人: | 深圳大学 |
| 主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64;G02B21/36 |
| 代理公司: | 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙)44312 | 代理人: | 王利彬 |
| 地址: | 518060 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明适用于生物光子学领域,提供了一种提高多光子成像信号强度的方法,包括获取多光子成像的信号强度;在物镜中,通过改变物镜填充因子来增强所述多光子成像的信号强度。本发明还提供了一种提高多光子成像信号强度的系统。本发明能提高深层生物组织高阶多光子显微成像中最大化的信号强度,从而获得更大成像深度。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 提高 光子 成像 信号 强度 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种提高多光子成像信号强度的方法,其特征在于,所述方法包括:获取多光子成像的信号强度;在物镜中,通过改变物镜填充因子来增强所述多光子成像的信号强度;其中,所述在物镜中,通过改变物镜填充因子来增强所述多光子成像的信号强度的步骤包括:在物镜中,在不同类型入射场下保持物镜后的功率恒定,并通过改变物镜填充因子来计算不同类型入射场下线偏振入射光在焦点附近的强度分布,其中,所述不同类型入射场为平面波或者高斯光束;利用不同类型入射场下线偏振入射光在焦点附近的强度分布来获取平面波的最优填充因子或者高斯光束的最优填充因子;以及根据不同类型入射场下的最优填充因子来增强所述多光子成像的信号强度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳大学,未经深圳大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510572194.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种双光子激发荧光检测三聚氰胺的方法
- 下一篇:一种测定仪





