[发明专利]一种提高多光子成像信号强度的方法及系统

权利要求书

1.一种提高多光子成像信号强度的方法，其特征在于，所述方法包括：

获取多光子成像的信号强度；

在物镜中，通过改变物镜填充因子来增强所述多光子成像的信号强度；

其中，所述在物镜中，通过改变物镜填充因子来增强所述多光子成像的信号强度的步骤包括：

在物镜中，在不同类型入射场下保持物镜后的功率恒定，并通过改变物镜填充因子来计算不同类型入射场下线偏振入射光在焦点附近的强度分布，其中，所述不同类型入射场为平面波或者高斯光束；

利用不同类型入射场下线偏振入射光在焦点附近的强度分布来获取平面波的最优填充因子或者高斯光束的最优填充因子；以及

根据不同类型入射场下的最优填充因子来增强所述多光子成像的信号强度。

2.如权利要求1所述的提高多光子成像信号强度的方法，其特征在于，所述多光子成像为三光子成像或者四光子成像。

3.如权利要求2所述的提高多光子成像信号强度的方法，其特征在于，所述获取多光子成像的信号强度的步骤包括：

利用数值模拟方式，由以下公式计算分别得到所述三光子成像的信号强度和所述四光子成像的信号强度：

其中，S3、S4分别表示所述三光子成像的信号强度和四光子成像的信号强度，表示柱坐标中的光强分布，V表示对体积积分。

4.如权利要求1所述的提高多光子成像信号强度的方法，其特征在于，所述平面波的线偏振入射光在焦点附近的强度分布具体由以下公式计算得到：

Eplaneinc(α)=1βexp(-ldepth2lecosα);]]>

所述高斯光束的线偏振入射光在焦点附近的强度分布具体由以下公式计算得到：

EGaussianinc(α)=1β1-exp(-2)1-exp(-2/β2)exp(-sin2αβ2sin2αmax)exp(-ldepth2lecosα)]]>

其中，E^inc(α)表示线偏振入射光在焦点附近的强度分布，l_depth表示成像深度，l_e与表示激发光特征衰减长度，β表示物镜填充程度的填充因子，α_max表示积分角上限，α表示光线与光轴的夹角。