[发明专利]显影方法和显影装置有效
| 申请号： | 201510566734.0 | 申请日： | 2015-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN105404103B | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 竹口博史;寺下裕一;下青木刚;吉原孝介 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;王雪燕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的是在对曝光后的基板进行显影处理时，提高基板的面内的抗蚀剂图案的线宽的均匀性。进行显影处理，包括以下步骤：使用具有显影液的排出口和形成得比上述基板的表面小的接触部的显影液喷嘴，在上述基板的中央部使上述接触部与基板的表面相对的步骤；接着，从上述显影液喷嘴的排出口向基板的表面排出显影液，从上述接触部看时使显影液溢出到比该接触部的外缘靠外侧的位置而形成积液的步骤；和像这样维持显影液溢出的状态，一边从上述排出口向正在旋转的基板排出显影液，一边使上述显影液喷嘴从基板的中央部向周缘部移动而将上述积液扩展到基板的整个面的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种显影方法，其特征在于，包括：将曝光后的基板水平地保持于可旋转的基板保持部的步骤；接着，使用具有显影液的排出口和形成得比所述基板的表面小的接触部的显影液喷嘴，在所述基板的中央部使所述接触部与基板的表面相对的步骤；接着，从所述显影液喷嘴的排出口向基板的表面排出显影液，使得从所述接触部观看时使显影液溢出到比该接触部的外缘靠外侧的位置而形成积液的步骤；和维持显影液溢出到比所述接触部靠外侧的位置的状态，一边从所述排出口向正在旋转的基板排出显影液，一边使所述显影液喷嘴从基板的中央部向周缘部移动而使所述积液扩展到基板的整个面的步骤。
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