[发明专利]显影方法和显影装置

权利要求书

1.一种显影方法，其特征在于，包括：

将曝光后的基板水平地保持于可旋转的基板保持部的步骤；

接着，使用具有显影液的排出口和形成得比所述基板的表面小的接触部的显影液喷嘴，在所述基板的中央部使所述接触部与基板的表面相对的步骤；

接着，从所述显影液喷嘴的排出口向基板的表面排出显影液，使得从所述接触部观看时使显影液溢出到比该接触部的外缘靠外侧的位置而形成积液的步骤；和

维持显影液溢出到比所述接触部靠外侧的位置的状态，一边从所述排出口向正在旋转的基板排出显影液，一边使所述显影液喷嘴从基板的中央部向周缘部移动而使所述积液扩展到基板的整个面的步骤；

使所述积液扩展到基板的整个面的步骤是一边使扩散部件与溢出到比所述接触部的外缘靠外侧的位置的积液的一部分接触，一边使该扩散部件与所述接触部一起移动的步骤。

2.如权利要求1所述的显影方法，其特征在于：

所述扩散部件在俯视观看时相对于包含所述接触部的中心和基板的旋转中心的直线，在基板的旋转方向上游侧设置有至少一部分。

3.一种显影方法，其特征在于，包括：

将曝光后的基板水平地保持于可旋转的基板保持部的步骤；

接着，使用具有显影液的排出口和形成得比所述基板的表面小的接触部的显影液喷嘴，在所述基板的中央部使所述接触部与基板的表面相对的步骤；

接着，从所述显影液喷嘴的排出口向基板的表面排出显影液，使得从所述接触部观看时使显影液溢出到比该接触部的外缘靠外侧的位置而形成积液的步骤；和

维持显影液溢出到比所述接触部靠外侧的位置的状态，一边从所述排出口向正在旋转的基板排出显影液，一边使所述显影液喷嘴从基板的中央部向周缘部移动而使所述积液扩展到基板的整个面的步骤；

使所述积液扩展到基板的整个面的步骤是一边从辅助喷嘴向溢出到比所述接触部的外缘靠外侧的位置的积液的一部分供给显影液，一边使该辅助喷嘴与所述接触部一起移动的步骤。

4.一种显影方法，其特征在于，包括：

将曝光后的基板水平地保持于可旋转的基板保持部的步骤；

接着，使用具有显影液的排出口和形成得比所述基板的表面小的接触部的显影液喷嘴，在所述基板的中央部使所述接触部与基板的表面相对的步骤；

接着，从所述显影液喷嘴的排出口向基板的表面排出显影液，使得从所述接触部观看时使显影液溢出到比该接触部的外缘靠外侧的位置而形成积液的步骤；和

维持显影液溢出到比所述接触部靠外侧的位置的状态，一边从所述排出口向正在旋转的基板排出显影液，一边使所述显影液喷嘴从基板的中央部向周缘部移动而使所述积液扩展到基板的整个面的步骤；

所述接触部与显影液接触的外缘的外形，在俯视观看时，行进方向的外缘形成向行进方向凸起的曲线，与所述行进方向的外缘相连的左右的各外缘形成比所述曲线的曲率大的曲率的曲线或角部。

5.如权利要求1至4中任一项所述的显影方法，其特征在于：

所述排出口在所述接触部开口。

6.如权利要求1至4中任一项所述的显影方法，其特征在于：

进行使所述积液扩展到基板的整个面的步骤时的基板的转速为10～50rpm。

7.如权利要求1至4中任一项所述的显影方法，其特征在于：

所述排出口是以下三者中的任一者：

为了使显影液从接触部的一端侧向另一端侧流动而在所述接触部在相对于基板的表面倾斜的方向上开口的开口部；

在所述接触部以呈喷淋状排出显影液的方式设置的多个开口部；和

构成所述接触部的多孔质体的各孔。

8.如权利要求1至4中任一项所述的显影方法，其特征在于：

所述形成积液的步骤包括从所述显影液喷嘴的排出口向所述接触部与基板的表面的间隙排出显影液而使显影液充满该间隙的步骤。