[发明专利]一种基于双势垒结构的磁存储器件在审
申请号: | 201510507427.5 | 申请日: | 2015-08-18 |
公开(公告)号: | CN105161613A | 公开(公告)日: | 2015-12-16 |
发明(设计)人: | 王梦醒;赵巍胜 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | H01L43/00 | 分类号: | H01L43/00;H01L43/08;G11C11/00;G11C11/16 |
代理公司: | 北京慧泉知识产权代理有限公司 11232 | 代理人: | 王顺荣;唐爱华 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种基于双势垒结构的磁存储器件,它是使用双势垒结构增强磁隧道结的垂直磁各向异性或隧穿磁阻比率,同时结合底部金属导线形成基于自旋轨道矩的三端口器件;该磁存储器件的双势垒结构包含金属氧化物势垒层、铁磁金属构成的自由层和另一层金属氧化物势垒层,该结构顶部依次沉积铁磁金属构成的参考层及非磁性金属构成的覆盖层,并通过金属电极与外围电路相连,底部导线由具有较高霍尔角的金属材料构成,用于数据写入。本发明通过将双势垒结构引入基于自旋轨道矩的磁存储器件,能够有效避免电阻过大对数据写入造成的负面影响,并提高器件的热稳定性或隧穿磁阻比率;它保持了STT-MRAM的良好性质,同时十分适合于产业化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 双势垒 结构 磁存储器 | ||
【主权项】:
一种基于双势垒结构的磁存储器件,其特征在于:它是使用双势垒结构增强磁隧道结的垂直磁各向异性或隧穿磁阻比率,同时结合底部金属导线形成基于自旋轨道矩的三端口器件;该磁存储器件的双势垒结构包含金属氧化物势垒层、铁磁金属构成的自由层和另一层金属氧化物势垒层,该结构顶部依次沉积铁磁金属构成的参考层及非磁性金属构成的覆盖层,并通过金属电极与外围电路相连,底部导线由具有较高霍尔角的金属材料构成,用于数据写入;将一定方向与幅度的面内写电流注入底部金属导线,双势垒结构的磁化方向将在自旋轨道矩的作用下发生翻转,当自由层与参考层的磁化方向相同时,磁隧道结呈现低电阻状态,表示数据“0”;当磁化方向相反时,磁隧道结呈现高电阻状态,表示数据“1”。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学,未经北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510507427.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:经编机纱线张力器
- 下一篇:一种VCM转化器的安全附件